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ABN-MLM-001無掩膜光刻機(jī)PX 4056
臺(tái)式光刻機(jī)PX 5115
德國(guó)海德堡進(jìn)口科研型3D納米激光直寫光刻機(jī)PX 3220
無掩膜/激光直寫光刻機(jī)PX 1560
C-43型 9英寸國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)PX 5491
PALET DDB-701無掩膜光刻系統(tǒng)PX 3788
Nikon S207D掃描式光刻機(jī)PX 1800
PPS-8200p1/8300p1日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī)PX 4302
UV-Writer無掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)PX 2729
FPKLOE-DILASE-3D3D激光直寫打印機(jī)PX 4378
全自動(dòng)步進(jìn)重復(fù)式激光干涉光刻機(jī)PX 1845
無掩模光刻機(jī)PX 1930
TTT-UV Litho-ACA高靈活性 科研版無掩膜光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-Y教育版無掩膜光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-BIO生命科學(xué)無掩膜光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-S高速版無掩膜光刻機(jī)PX 0
TTT-UV Litho-ACA科研版無掩膜光刻機(jī)PX 0
實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)PX 5115
日本桌面臺(tái)式無掩膜光刻機(jī) PALET DDB-701PX 3788
C-43型多點(diǎn)光源曝光頭高精度國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)PX 5491
C-33型 4英寸 國(guó)產(chǎn)高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)PX 5491
C-33型 國(guó)產(chǎn)雙面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備PX 5491
C-31型 雙面國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)PX 5491
C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)PX 5491
C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備PX 5491
C-25XA型 4英寸/6英寸 高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)PX 5491
C-25型單面光刻機(jī) 高精度PX 5491
Nikon S208D掃描式光刻機(jī)PX 1800
UV Litho-ACA無掩膜/激光直寫光刻機(jī)PX 1800
Canon FPA5000 ES3掃描式光刻機(jī)PX 1800
Canon FPA5000 ES4掃描式光刻機(jī)PX 1800
MS6-CA手動(dòng)光刻機(jī)PX 1800
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS激光光刻機(jī).PX 1800
ELS-HAYATE電子束光刻機(jī)PX 1800
ELS-BODEN Σ電子束光刻機(jī)PX 1800
ELS-BODEN電子束光刻機(jī)PX 1800
MLA 300無掩模對(duì)光刻機(jī)PX 1800
μMLA無掩模光刻機(jī)PX 1800
VPG 300 DI無掩模直接成像儀光刻機(jī)PX 1800
織雀™PL-3D Premium高精密微3D光刻機(jī)PX 1800
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
臺(tái)式光刻機(jī)
實(shí)驗(yàn)室光刻機(jī)
德國(guó)海德堡進(jìn)口科研型3D納米激光直寫光刻機(jī)
無掩膜光刻機(jī)
無掩膜/激光直寫光刻機(jī)
無掩膜光刻系統(tǒng)
日本桌面臺(tái)式無掩膜光刻機(jī) PALET DDB-701
國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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