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2023
04-122023
04-12光刻創(chuàng)新技術:EVG推出MLE無掩模曝光光刻技術
1.介紹對電子設備性能和靈活性的新要求正在使制造基礎架構從傳統(tǒng)的基于掩模的光刻技術轉變?yōu)橛糜诟呒壏庋b和異構集成的數(shù)字光刻技術。片上系統(tǒng)正在從單片解決方案轉向封裝,小芯片和功能塊中的模塊化系統(tǒng)。因此,對...2023
04-122023
04-12基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究(結果與討論)
3結果與討論3.1顯影時間影響經(jīng)過無掩模光刻機曝光后,目標圖案已轉移至ITO玻璃上。將ITO玻璃放置于加熱板上進行加熱,烘除光刻膠中的殘留溶劑、水分,使光刻膠與ITO玻璃結合更加緊密,此時,經(jīng)過曝光的...2023
04-12基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究(引言+實驗)
1引言ITO(indiumtinoxide)又稱氧化銦錫,是一種銦錫金屬氧化物,因其具有光學透明性[1]、高導電性[2]、易加工性[3]及柔性潛力[4]等優(yōu)點,目前在光電檢測、生物芯片及微納器件等領域...2023
04-102023
03-142023
03-082023
02-20EVG突破用于半導體高/級封裝的掩模對準光刻技術中的速度和精度障礙
面向MEMS,納米技術和半導體市場的晶圓鍵合和光刻設備的LINGXIAN供應商EVGroup(EVG)近日推出了IQAlignerNT,它是針對大批量先進封裝應用的新的,先進的自動掩模對準系統(tǒng)。新型I...2023
02-202023
02-20【EVG新品發(fā)布】NT系列大幅度提高光刻對準和測試精度
在微電子、納米、半導體領域為晶片接合和光刻技術提供設備技術方案的供應商EVG近期推出了NT系列光刻機和對準測試機,這是一個全新的、已經(jīng)被生產(chǎn)廠家驗證過的新型光刻曝光機以及晶圓對晶圓(W2W)接合曝光和...2023
02-202023
06-082023
02-162023
02-142023
01-112023
01-102023
01-102022
12-142022
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