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岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司

  • 2022

    11-25

    Herz 隔振臺(tái)怎么樣

    HERZ是聞名的隔振臺(tái)系統(tǒng)方案供應(yīng)商之一。在納米技術(shù)的時(shí)代,極之微細(xì)的振動(dòng)已對(duì)搜索結(jié)果造成極大的影響,必須改善測(cè)量環(huán)境,以發(fā)揮儀器的最佳效能,達(dá)到最佳成果。從高層次的研究乃至各個(gè)行業(yè)的基本生產(chǎn),要想有...
  • 2023

    03-16

    光學(xué)輪廓儀應(yīng)該怎么用

    光學(xué)輪廓儀是一種全自動(dòng)測(cè)量設(shè)備。操作員只需安裝被測(cè)工件,在驗(yàn)證軟件上設(shè)置掃描的開始和結(jié)束位置,點(diǎn)擊“開始”按鈕,測(cè)量針就會(huì)自動(dòng)接觸工件表面并根據(jù)設(shè)置的位置進(jìn)行掃描;在輪廓掃描過程中,軟件界面會(huì)實(shí)時(shí)繪制...
  • 2022

    11-24

    ThetaMetrisis膜厚儀用于氧化釔 (Y2O3) 涂層厚度測(cè)量

    接下來為大家介紹ThetaMetrisis膜厚儀在氧化釔(Y2O3)涂層厚度方面的測(cè)量應(yīng)用。ThetaMetrisis膜厚儀可快速準(zhǔn)確地繪制大尺寸氧化鋁陶瓷圓盤上的抗等離子涂層Y2O3厚度。1、案例介...
  • 2022

    11-24

    FR-Scanner-AIO-Mic-XY200: 微米級(jí)精度膜厚儀簡(jiǎn)介

    FR-Scanner-AIO-Mic-XY200是一款自動(dòng)薄膜厚度測(cè)繪系統(tǒng),光學(xué)膜厚儀用于全自動(dòng)圖案化晶圓上的單層和多層涂層厚度測(cè)量。電動(dòng)X-Y載物臺(tái)提供適用尺寸200mmx200mm的行程,可在20...
  • 2022

    11-21

    用來檢測(cè)表面粗糙度的儀器有哪幾種?

    表面粗糙度怎么檢測(cè),表面粗糙度的檢測(cè),我們常用的有以下幾中方法。1.顯微鏡比較法,Ra0.32;將被測(cè)表面與表面粗糙度比較樣塊靠近在一起,用比較顯微鏡觀察兩者被放大的表面,以樣塊工作面上的粗糙度為標(biāo)準(zhǔn)...
  • 2023

    03-16

    防震臺(tái)的應(yīng)用范圍與行業(yè)分析

    防震臺(tái)是一款很有名的防振系統(tǒng)。在納米技術(shù)的時(shí)代,極之微細(xì)的振動(dòng)已對(duì)搜索結(jié)果造成極大的影響,必須改善測(cè)量環(huán)境,以發(fā)揮儀器的較佳效能,達(dá)到較佳成果。Nanotechnology正在改變,由高層次的研究波及...
  • 2022

    10-24

    電容位移傳感器的工作原理是什么?

    電容式位移傳感器基于平板電容原理。電容的兩極分別是傳感器和與之相對(duì)的被測(cè)物體。如果有穩(wěn)定交流電通過傳感器,輸出交流電的電壓會(huì)與傳感器到被測(cè)物體之間的距離成正比關(guān)系,從而可以通過測(cè)量電壓的變化得到距離信...
  • 2022

    10-19

    顯微鏡LED曝光單元

    顯微鏡秒變光刻機(jī)!--顯微鏡LED曝光單元電子顯微鏡和光刻機(jī),兩個(gè)看上去風(fēng)馬牛不相及的東西,是如何結(jié)合到一起的?我們向您介紹一款無掩膜顯微鏡LED曝光單元UTA-3A-53M,能令顯微鏡秒變光刻機(jī)!該...
  • 2022

    10-19

    ThetaMetrisis 自動(dòng)化薄膜厚度測(cè)繪系統(tǒng)介紹

    FR-Scanner-AIO-Mic-XY200:微米級(jí)定位精度自動(dòng)化薄膜厚度測(cè)繪系統(tǒng)介紹FR-Scanner-AIO-Mic-XY200是一款自動(dòng)薄膜厚度測(cè)繪系統(tǒng),用于全自動(dòng)圖案化晶圓上的單層和多層...
  • 2022

    10-18

    4H-SiC 外延層中堆垛層錯(cuò)與襯底缺陷的關(guān)聯(lián)性研究

    1.摘要本研究探討了同質(zhì)外延生長(zhǎng)的4H-SiC晶片表面堆垛層錯(cuò)(SF)的形貌特征和起因。依據(jù)表面缺陷檢測(cè)設(shè)備KLA-TencorCS920的光致發(fā)光(PL)通道和形貌通道的特點(diǎn),將SF分為五類。其中I...
  • 2022

    09-02

    薄膜的厚度檢測(cè)在薄膜制造及加工業(yè)是常見的指標(biāo)之一

    在薄膜制造及加工業(yè),檢測(cè)薄膜的厚度是常見的薄膜檢測(cè)指標(biāo)之一,厚度檢測(cè)又多分為薄膜厚度檢測(cè)以及涂層厚度檢測(cè)兩類。由于薄膜的厚度是各層樹脂厚度的總和,如果薄膜的整體厚度均勻性差,其中各層樹脂的厚度分布也會(huì)...
  • 2022

    08-13

    ThetaMetrisis 膜厚儀應(yīng)用說明

    ThetaMetrisis膜厚儀應(yīng)用說明#050應(yīng)用微間距覆晶解決方案應(yīng)用銅柱凸塊新封裝技術(shù)系列激光加工/切割冷卻液水溶性保護(hù)膜(HogoMax)厚度測(cè)量應(yīng)用。1、介紹:隨著芯片制程逐漸微縮到28奈米...
  • 2022

    08-01

    單頻和雙頻激光干涉儀分別是如何測(cè)量的?

    激光干涉儀是利用激光作為長(zhǎng)度基準(zhǔn),對(duì)數(shù)控設(shè)備(加工中心、三座標(biāo)測(cè)量機(jī)等)的位置精度(定位精度、重復(fù)定位精度等)、幾何精度(俯仰扭擺角度、直線度、垂直度等)進(jìn)行精密測(cè)量的精密測(cè)量?jī)x器。激光干涉儀有單頻的...
  • 2022

    07-04

    影響納米壓痕試驗(yàn)的因素有哪些?

    納米壓痕技術(shù)也稱深度敏感壓痕技術(shù),是測(cè)試材料力學(xué)性質(zhì)的方法之一,可以在納米尺度上測(cè)量材料的各種力學(xué)性質(zhì),如載荷-位移曲線、彈性模量、硬度、斷裂韌性、應(yīng)變硬化效應(yīng)、粘彈性或蠕變行為等??蛇m用于有機(jī)或無機(jī)...
  • 2022

    06-06

    白光干涉儀是什么原理?干什么用?

    白光干涉儀是以白光干涉技術(shù)為原理,能夠以優(yōu)于納米級(jí)的分辨率,非接觸測(cè)量樣品表面形貌的光學(xué)測(cè)量?jī)x器,用于表面形貌紋理,微觀結(jié)構(gòu)分析,用于測(cè)試各類表面并自動(dòng)聚焦測(cè)量工件獲取2D,3D表面粗糙度、輪廓等一百...
  • 2022

    04-26

    翹曲度測(cè)量?jī)x在實(shí)際應(yīng)用中有哪些特殊功能?

    翹曲度測(cè)量?jī)x適用于手機(jī)玻璃、手機(jī)外殼、汽車玻璃、PAD平板玻璃、鋁板、PCB板及各類平面類零件的平面度、平整度、翹曲度的快速測(cè)量。適用于鍍膜的玻璃和非鍍膜的玻璃測(cè)量;適合光伏玻璃和玻璃襯底的彎曲度、翹...
  • 2022

    04-18

    有了它,操作紅外激光測(cè)厚儀更安全

    紅外激光測(cè)厚儀是用于板材生產(chǎn)線在線連續(xù)測(cè)量板材厚度的非接觸式測(cè)量設(shè)備,它克服了常規(guī)測(cè)量控制方式的缺陷,具有測(cè)量準(zhǔn)確、實(shí)用性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),可有效地改善測(cè)控環(huán)境。提高生產(chǎn)效率、提高成材率和產(chǎn)品質(zhì)。紅外激光測(cè)厚...
  • 2022

    03-28

    三維形貌儀在日常使用中具有9大優(yōu)點(diǎn)

    三維形貌儀是利用光學(xué)干涉原理研制開發(fā)的超精密表面輪廓測(cè)量?jī)x器。照明光束經(jīng)半反半透分光鏡分成兩束光,分別投射到樣品表面和參考鏡表面。從兩個(gè)表面反射的兩束光再次通過分光鏡后合成一束光,并由成像系統(tǒng)在CCD...
  • 2022

    03-18

    翹曲度測(cè)量?jī)x和塞尺測(cè)量對(duì)比有什么優(yōu)勢(shì)?

    翹曲度測(cè)量?jī)x適用于普通測(cè)量工具無法測(cè)量的領(lǐng)埔,如尺寸微小的鐘表、彈簧、橡膠、礦石珠寶、半導(dǎo)體、五金、模具、電子行業(yè)、精細(xì)加工、不規(guī)則工件等到進(jìn)行測(cè)量。還可以繪制簡(jiǎn)單的圖形,繪制測(cè)量畸形、復(fù)雜和零件重疊...
  • 2023

    07-20

    晶圓鍵合技術(shù)的新趨勢(shì)

    1.概述由于光刻的延遲和功率限制的綜合影響,制造商無法水平縮放,因此制造商正在垂直堆疊芯片設(shè)備,含三維集成技術(shù)。由于移動(dòng)設(shè)備的激增推動(dòng)了對(duì)更小電路尺寸的需求,這已變得至關(guān)重要,但這種轉(zhuǎn)變并不總是那么簡(jiǎn)...

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