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原來這才是真空鍍碳儀的正確操作規(guī)程

閱讀：1748 發(fā)布時間：2019-12-26
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　　真空鍍碳儀為SEM、TEM、STEM、EDS/WDS、EBSD和微探針分析提供高質(zhì)量的鍍膜技術(shù)。系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊，所占空間小。樣品室直徑150mm，可快速抽真空進(jìn)行鍍膜處理，處理周期約10分鐘。高真空條件下使用超純的碳棒為嚴(yán)格的高分辨掃描電鏡、透射電鏡、EBSD及探針分析提供高質(zhì)量的鍍膜處理。.組件設(shè)計方式可方便地對不同優(yōu)化條件下的各種應(yīng)用進(jìn)行切換

　　碳蒸發(fā)控制：
　　1、208C對碳棒－Bradley型碳蒸發(fā)源使用*的*集成的反饋控制設(shè)計。
　　2、電流和電壓通過磁控頭的傳感線監(jiān)控，蒸發(fā)源作為反饋回路中的一部分被控制。該蒸發(fā)裝置使常規(guī)的碳棒具有優(yōu)良的穩(wěn)定性和重現(xiàn)性。功率消耗低，碳棒具有異常的重新蒸鍍特性。
　　3、蒸發(fā)源使用兩步超純碳棒。
　　4、蒸發(fā)源可以手動“脈沖”或“連續(xù)”的方式進(jìn)行鍍膜。“脈沖”方式如果和MTM-10高分辨膜厚監(jiān)測儀一起使用，可以準(zhǔn)確得到所需要的膜厚。自動方式下的操作非常方便，操作者只要設(shè)定電壓和時間，可以得到一致的鍍膜效果。

　　真空鍍碳儀的操作規(guī)程：
　　1、連接電源并打開主機(jī)（POWER）。
　　2、等綠燈亮后，再等3~5分鐘再調(diào)節(jié)電壓（4V）和時間（6s）。
　　3、打開主機(jī)背面的小開關(guān)，調(diào)整轉(zhuǎn)速在3~4檔，并設(shè)定電壓和時間。
　　4、打開測厚儀并使其歸零。
　　5、按START鍵開始噴碳。
　　6、實(shí)驗(yàn)結(jié)束先停止設(shè)備轉(zhuǎn)動，并先關(guān)掉設(shè)備背面小開關(guān)。
　　7、再關(guān)POWER。
　　8、關(guān)機(jī)后打開玻璃罩上蓋，等其降到實(shí)溫之后再將其蓋好。

上一篇：介紹真空鍍碳儀的使用優(yōu)勢及特性

下一篇：在使用化學(xué)反應(yīng)監(jiān)測儀過程中有以下步驟

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