 |
邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
會(huì)員.png)
12
聯(lián)系電話
|
邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
聯(lián)系電話
| 參考價(jià) | 面議 |
更新時(shí)間：2024-05-16 21:32:18瀏覽次數(shù)：2187
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 5萬(wàn)-10萬(wàn) |
|---|
專為去除SEM & TEM樣品的碳?xì)湮廴径O(shè)計(jì)。*的雙清洗模式（immersion和downstream）能夠處理各種不同的樣品，從嚴(yán)重污染的電子光學(xué)孔徑光闌到各種脆弱易損樣品，如石墨烯、碳納米管、類金剛石碳膜以及多孔碳支持膜銅網(wǎng)上的TEM樣品。石英樣品托板上的孔洞可以安裝標(biāo)準(zhǔn)SEM樣品托。
特點(diǎn)：
1. 系統(tǒng)具有雙等離子源。浸入式等離子源用于主動(dòng)表面處理、光刻膠蝕刻。遠(yuǎn)程式等離子源用于溫和的污染清除以及脆弱易損樣品的表面活化
2. 13.56MHz高頻射頻發(fā)生器
3. 7英寸觸摸屏控制界面，全自動(dòng)操作
4. 標(biāo)配75W版本，可選150W版本
5. 標(biāo)配2路氣體輸入，可選第三路氣體輸入
6. 可選與FEI、JEOL、HITACHI等TEM樣品桿配套的適配器
7. AC輸入：通用(110~230V, 50/60Hz)
三、技術(shù)參數(shù)
1、控制系統(tǒng)
1）操作界面：7英寸電阻觸摸屏操作界面，支持多種工作方式。
2）程序控制：可編程，總共有20個(gè)程序，每個(gè)程序有3個(gè)清潔步驟
2、反應(yīng)腔體
1）腔體材質(zhì)：圓柱形石英玻璃艙。
2）腔體尺寸：內(nèi)徑110毫米，外徑120毫米，深度280毫米，壁厚：5毫米。
3）前觀測(cè)窗：前方開(kāi)口，5毫米厚石英玻璃可視窗口，可觀測(cè)內(nèi)腔等離子狀態(tài)，并帶有防真空泄漏和避免高壓的聯(lián)鎖裝置，有效保護(hù)操作的安全性；
3、射頻電源
1）射頻頻率：13.56MHz
2）射頻功率：標(biāo)配0~75W；可選配0~150W。從0瓦到150瓦之間以1瓦間距連續(xù)可調(diào)，自動(dòng)阻抗匹配。
3）射頻輸出可以工作在脈沖方式，脈沖比可以從1/255調(diào)到255/255（連續(xù)輸出）。
4、等離子源
1）等離子強(qiáng)度探測(cè)器實(shí)時(shí)測(cè)量等離子源強(qiáng)度。
2）電阻耦合電離方式。
3）外置電極設(shè)計(jì)，高壓電極不合等離子接觸以避免金屬濺射造成的樣品污染。
5、氣體控制
1）氣路控制：標(biāo)配一路MFC；可選配三路MFC；
2）質(zhì)量流量計(jì)可以在0~100sccm之間控制氣體流量；
3）一路(Venting and purging)氣體入口用來(lái)快速給樣品室放氣和沖走殘余處理氣體。
4）自動(dòng)放氣流程控制可以保護(hù)真空泵不受影響。
5）高性能氣壓計(jì)可以測(cè)量1e-4 Torr到大氣壓之間的氣壓。
6）6mm氣體接口。
6、真空系統(tǒng)
1）KF25法蘭接口用來(lái)連接真空泵。
2）真空要求：抽速：>1.7m3/h；
3）低氣壓：<=200mTorr.
