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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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450 Advanced德國進(jìn)口 SPS勻膠機(jī) POLOS SPIN COATER 簡(jiǎn)單介紹：德國進(jìn)口 SPS勻膠機(jī) POLOS SPIN COATER Advanced系列旋轉(zhuǎn)處理器是先進(jìn)的系統(tǒng)，提供精確和可重復(fù)的工藝控制。一個(gè)空氣動(dòng)力學(xué)效率高的腔室提高了均勻性，而天然聚丙烯工藝腔室保證了無污染、易于清潔的工藝區(qū)域。所有單元都具有可編程的CW和CCW旋轉(zhuǎn)以及puddle交換擺動(dòng)功能。 產(chǎn)品型號(hào)：450 Advanced 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-04-09 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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Spin300X德國進(jìn)口 POLOS勻膠機(jī) SPS旋涂儀SPIN 簡(jiǎn)單介紹：我們?nèi)赂倪M(jìn)設(shè)計(jì)的POLOS® SPIN300x勻膠機(jī)型號(hào)現(xiàn)已開放訂購。德國進(jìn)口 POLOS勻膠機(jī) SPS旋涂儀SPIN 提供精準(zhǔn)且可重復(fù)的工藝控制，主體材質(zhì)采用天然聚丙烯（NPP），或可選耐化學(xué)腐蝕的**聚四氟乙烯（PTFE）**版本。 產(chǎn)品型號(hào)：Spin300X 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-04-08 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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SPIN200x德國進(jìn)口 SPS勻膠機(jī) Polos旋涂儀 SPIN系列 簡(jiǎn)單介紹：全新改進(jìn)和創(chuàng)新設(shè)計(jì)的德國進(jìn)口 SPS勻膠機(jī) Polos旋涂儀 SPIN系列SPIN200X型號(hào)。POLOS SPIN200x提供精確、可重復(fù)的過程控制。它由天然聚丙烯(NPP)制成，或可選化學(xué)耐用的聚四氟乙烯(PTFE)。這款經(jīng)過驗(yàn)證的型號(hào)的新版本分為標(biāo)準(zhǔn)版和高級(jí)版。它非常適合處理直徑高達(dá)200毫米或尺寸為150x150毫米的方形樣本的廣泛基板。 產(chǎn)品型號(hào)：SPIN200x 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-04-07 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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SPIN150xSPS勻膠機(jī) POLOS 簡(jiǎn)單介紹：德國進(jìn)口：SPS勻膠機(jī) POLOS，SPIN150x，一種多功能的高質(zhì)量基材旋涂機(jī)，由 NPP制成，也可采用 PTFE 制成。 產(chǎn)品型號(hào)：SPIN150x 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-04-07 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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Omni第三代ASH顯微鏡：第三代多功能檢測(cè)平臺(tái)Omni 簡(jiǎn)單介紹：ASH顯微鏡：第三代多功能檢測(cè)平臺(tái)Omni 全高清獨(dú)立運(yùn)行，無需PC，配備人體工學(xué)設(shè)計(jì)與HDMI直連功能，集成一鍵成像及智能檢測(cè)軟件，支持航天、汽車、電子等領(lǐng)域的精密質(zhì)檢、工藝測(cè)試與快速返工，實(shí)現(xiàn)多場(chǎng)景高效檢測(cè)。 產(chǎn)品型號(hào)：Omni第三代 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-03-28 |
參考價(jià):¥170000 詢價(jià)留言 | ||
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ASH顯微鏡：Omni系列 圖像檢測(cè)及測(cè)量工具 簡(jiǎn)單介紹：ASH顯微鏡：Omni系列 圖像檢測(cè)及測(cè)量工具 是一款無需PC的獨(dú)立全高清智能顯微鏡，集成一鍵成像、多場(chǎng)景測(cè)量及人機(jī)交互系統(tǒng)，適用于航天、汽車、電子等工業(yè)領(lǐng)域的高精度質(zhì)檢與工藝優(yōu)化。 產(chǎn)品型號(hào)： 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-03-28 |
參考價(jià):¥160000 詢價(jià)留言 | ||
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4KASH顯微鏡：Inspex 檢測(cè)平臺(tái) 超高分辨率 簡(jiǎn)單介紹：ASH顯微鏡：Inspex 檢測(cè)平臺(tái) 超高分辨率采用4K UHD分辨率（3840×2160像素），提供4倍解析力和水晶般清晰成像，支持85倍光學(xué)變焦與170倍數(shù)字變焦，結(jié)合優(yōu)良圖像處理技術(shù)，大幅提升缺陷檢測(cè)準(zhǔn)確性。其直觀的操作界面、高效的檢測(cè)流程及人體工學(xué)設(shè)計(jì)，有效降低操作疲勞并縮短檢測(cè)時(shí)間，顯著提高生產(chǎn)良品率，適用于高精度檢測(cè)需求場(chǎng)景。 產(chǎn)品型號(hào)：4K 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-03-27 |
參考價(jià):¥95000 詢價(jià)留言 | ||
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4KASH顯微鏡：Inspex系列精密儀器檢測(cè)系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：ASH顯微鏡：Inspex系列精密儀器檢測(cè)系統(tǒng)采用4K分辨率，像素密度提升四倍，結(jié)合85倍光學(xué)與170倍數(shù)碼變焦，支持多級(jí)放大檢測(cè)。優(yōu)化算法提升缺陷識(shí)別精度,直觀界面簡(jiǎn)化操作，人體工學(xué)設(shè)計(jì)減少疲勞，低延遲技術(shù)加快圖像處理，大幅提升檢測(cè)效率與精度。 產(chǎn)品型號(hào)：4K 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-03-27 |
參考價(jià):¥85000 詢價(jià)留言 | ||
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WS-650Mz-23N氣流保護(hù)+藍(lán)牙控制：WS-650-23NPP勻膠機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：有機(jī)太陽電池制備涂膜工藝行業(yè)內(nèi)Laurell-650有機(jī)太陽能電池勻膠旋涂儀，從1985年開始，30多年，用戶過百萬！廣發(fā)應(yīng)用于鈣鈦礦太陽能電池薄膜制備，現(xiàn)當(dāng)前型號(hào)WS-650-23N勻膠機(jī)，在許多的實(shí)驗(yàn)室可找到！洛桑聯(lián)邦理工學(xué)院（EPFL）Michael Grtzel教授課題組使用的就是Laurell勻膠機(jī)WS-650-23N。氣流保護(hù)+藍(lán)牙控制：WS-650-23NPP勻膠機(jī) 產(chǎn)品型號(hào)：WS-650Mz-23N 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-03-27 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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WS-650Mz-23N半導(dǎo)體與微電子：WS-650-23NPPB勻膠機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：有機(jī)太陽電池制備涂膜工藝行業(yè)內(nèi)Laurell-650有機(jī)太陽能電池勻膠旋涂儀，從1985年開始，30多年，用戶過百萬！廣發(fā)應(yīng)用于鈣鈦礦太陽能電池薄膜制備，現(xiàn)當(dāng)前型號(hào)WS-650-23N勻膠機(jī)，在許多的實(shí)驗(yàn)室可找到！洛桑聯(lián)邦理工學(xué)院（EPFL）Michael Grtzel教授課題組使用的就是Laurell勻膠機(jī)WS-650-23N。半導(dǎo)體與微電子：WS-650-23NPPB勻膠機(jī) 產(chǎn)品型號(hào)：WS-650Mz-23N 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-03-27 |
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WS-650Mz-23NNIST認(rèn)證+多段編程：WS-650Mz-23勻膠機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：有機(jī)太陽電池制備涂膜工藝行業(yè)內(nèi)Laurell-650有機(jī)太陽能電池勻膠旋涂儀，從1985年開始，30多年，用戶過百萬！廣發(fā)應(yīng)用于鈣鈦礦太陽能電池薄膜制備，現(xiàn)當(dāng)前型號(hào)WS-650-23N勻膠機(jī)，在許多的實(shí)驗(yàn)室可找到！洛桑聯(lián)邦理工學(xué)院（EPFL）Michael Grtzel教授課題組使用的就是Laurell勻膠機(jī)WS-650-23N。NIST認(rèn)證+多段編程：WS-650Mz-23勻膠機(jī) 產(chǎn)品型號(hào)：WS-650Mz-23N 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-03-27 |
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GEMStar XT臺(tái)式原子層沉積系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品特點(diǎn) 美國ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列臺(tái)式 ALD系統(tǒng)，在小巧的機(jī)身（78 x56 x28 cm）中集成了原子層沉積所需的所有功能，可zui 多容納9片8英寸基片同時(shí)沉積。GEMStar XT全系配備熱壁，結(jié)合前驅(qū)體瓶加熱，管路加熱，橫向噴頭等設(shè)計(jì)，使溫度均勻性高達(dá)99.9%，氣流對(duì)溫度影響減少到0.03% 以下。高溫度穩(wěn)定度的設(shè)計(jì)不僅實(shí)現(xiàn)在8英寸基體上實(shí)現(xiàn)膜厚的不均勻性 產(chǎn)品型號(hào)：GEMStar XT 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-03-12 |
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PL400紫外納米壓印機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：EZ Imprinting推出了一款臺(tái)式獨(dú)立NIL納米壓印PL系列系統(tǒng)：PL系列400/600. EZImprinting是一種超高產(chǎn)率（ 99％）納米壓印光刻系統(tǒng)，帶有低于10納米的分辨率和一步自動(dòng)釋放功能。 該平臺(tái)提供具有微定位夾具的機(jī)械平臺(tái)，用于安裝納米壓印室，UV固化源和對(duì)準(zhǔn)顯微鏡。 它即可以作為納米壓印系統(tǒng)，也可以作為傳統(tǒng)的掩模對(duì)準(zhǔn)器，同時(shí)提供可編程的自動(dòng)控制功能。 產(chǎn)品型號(hào)：PL400 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-03-12 |
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R2P NanoImprinter納米壓印機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：Desktop R2P NanoImprinter 裝置適用于小型納米壓印光刻工作。該設(shè)備非常適用于快速原型制作、測(cè)試和結(jié)構(gòu)特性表征，包括使用光固化樹脂和壓印材料。 典型應(yīng)用范圍從壓印、芯片實(shí)驗(yàn)室到衍射光學(xué)元件，以及其他納米壓印結(jié)構(gòu)。Desktop R2P NanoImprinter 在其受保護(hù)的環(huán)境中工作。 產(chǎn)品型號(hào)：R2P NanoImprinter 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-03-12 |
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CNI v3.0-200臺(tái)式納米壓印機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：桌面納米壓印機(jī)，易于復(fù)制微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)。 納米壓?。岷妥贤饩€） 直徑高達(dá)210mm圓形模板，帶紫外線 150 * 150mm方片模板，采用熱處理工藝 熱壓印 操作簡(jiǎn)單直觀 用途廣泛 即插即用 專為研發(fā)而設(shè)計(jì) 產(chǎn)品型號(hào)：CNI v3.0-200 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-03-12 |
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POLOS HOTPLATE 350Polos350熱板 簡(jiǎn)單介紹：德國進(jìn)口：polos350熱板，適用于軟烘烤和硬烘烤工藝，以及光刻膠、環(huán)氧樹脂或 任何其他需要精確溫度控制的工作的固化。 產(chǎn)品型號(hào)：POLOS HOTPLATE 350 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2025-03-12 |
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CNI v3.0-100納米壓印機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：CNI v3.0-100是一種非常靈活的納米壓印機(jī)。它可提供加熱型納米壓印、UV紫外納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統(tǒng)可根據(jù)特定需求輕松配置，體積小，容易存放，大可處理210mm（8英寸）圓形的任何尺寸印章和基材。該系統(tǒng)是手動(dòng)裝卸印章和模板，但所有處理器都是全自動(dòng)的，軟件用戶可以*控制壓印過程。 產(chǎn)品型號(hào)：CNI v3.0-100 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-03-11 |
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AT-200MAnric原子層沉積系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：占地面積小的桌面系統(tǒng)（ 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺） 具有超快 MFC 的高溫兼容快速脈沖 ALD 閥，用于集成惰性氣體吹掃。 4 英寸圓形卡盤可定制，適用于較小尺寸或其他形狀（11 毫米高）。 3 種有機(jī)金屬前體和 2 種（最多 3 種）反反應(yīng)物。 整個(gè)加熱管線（從前體到腔室）。 高曝光（用于溝槽和多孔基板）和靜態(tài)處理模式 全鋁（半導(dǎo)體級(jí)）腔室 ? 范圍高達(dá) 310°C 產(chǎn)品型號(hào)：AT-200M 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-03-11 |
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AT-610原子層沉積系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：原子層沉積（Atomic layer deposition）是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍?cè)诨妆砻娴姆椒?。原子層沉積與普通的化學(xué)沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中，新一層原子膜的化學(xué)反應(yīng)是直接與之前一層相關(guān)聯(lián)的，這種方式使每次反應(yīng)只沉積一層原子。 產(chǎn)品型號(hào)：AT-610 所在地：北京市 更新時(shí)間：2025-03-11 |
參考價(jià):¥60 詢價(jià)留言 | ||
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AT-410原子層沉積系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：原子層沉積系統(tǒng)（ALD）是一種基于自限制表面化學(xué)反應(yīng)的優(yōu)良薄膜沉積技術(shù)。通過交替通入不同前驅(qū)體氣體，在基底表面逐層形成單原子層厚度的薄膜，具有原子級(jí)精度控制和三維共形性覆蓋的特點(diǎn)，尤其適用于復(fù)雜結(jié)構(gòu)和高深寬比器件的均勻鍍膜。 產(chǎn)品型號(hào)：AT-410 所在地：國外 更新時(shí)間：2025-03-11 |
參考價(jià):¥60 詢價(jià)留言 | ||
