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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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更新時間：2025-03-12 10:13:53瀏覽次數(shù)：2716
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一、納米壓印機的工作原理
納米壓印技術(shù)通過物理壓印的方式，將模板（模板表面具有納米級圖案）的微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到目標材料表面，主要分為以下兩種主流工藝：
1. 熱壓?。═hermal NIL）
步驟：
加熱軟化：將聚合物材料（如PMMA、SU-8等）加熱至玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上，使其軟化。
壓印成型：用硬質(zhì)模板（如硅、石英）在高壓下壓入軟化的聚合物，形成納米結(jié)構(gòu)。
冷卻脫模：降溫固化聚合物后，分離模板，保留納米圖案。
特點：工藝簡單、成本低，但高溫可能限制對熱敏感材料的應(yīng)用。
2. 紫外光固化壓?。║V-NIL）
步驟：
涂覆光刻膠：在基材表面旋涂紫外光固化膠（低粘度樹脂）。
壓印曝光：用透明模板（如石英）壓合膠層，同時紫外光照射固化膠體。
脫模與刻蝕：分離模板后，通過刻蝕去除殘留膠層，得到納米結(jié)構(gòu)。
特點：室溫操作、分辨率高（可達<50nm），適合精密器件制造。
納米壓印優(yōu)勢：
超高分辨率：超越傳統(tǒng)光刻的物理衍射極限。
低成本：無需復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)，適合大面積圖案化。
材料兼容廣：可加工金屬、聚合物、玻璃等多種基材。
二、納米壓印機技術(shù)特點
CNI v3.0系列納米壓印機是一款專為實驗室開發(fā)的即插即用，兼具熱壓印和紫外壓印兩種功能，而且可以快速的實現(xiàn)真空環(huán)境下的壓印。UV蓋和連接器的壓印腔室，控制模塊，用于自動控制壓印過程（壓力，溫度，UV曝光等），壓印室可實現(xiàn)真空兼容，低至1mbar。
★1.1承載基片：≤210mm的各種基片，高度20mm；
1.2壓印真空度：1mbar；
1.3加熱溫度：最高溫度250℃；
1.4最大壓力：≥5bar；
1.5 UV波長：4個組合的LED光源，波長365nm，組合光的功率可達到11.6W，LED光源的溫度被實時檢測，擁有過熱保護功能；
1.6 UV最大功率：≥11,600mW
1.7 印章載體：1個可更換的直徑為210 mm的加熱元件，還可以用作壓印腔中的印模承載平臺，能夠在高達250℃的溫度下進行熱壓??；
1.8 壓印軟件：運行CNI 軟件，該軟件控制壓印過程中的所有內(nèi)容（壓力，溫度，紫外線照射，時間等）
三、納米壓印機的應(yīng)用
納米壓印技術(shù)憑借其高分辨率和低成本特性，廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域：
1.半導(dǎo)體與集成電路
制造高密度存儲芯片（如NAND閃存、MRAM）。
光子集成電路（如硅光器件、光柵耦合器）。
優(yōu)勢：替代傳統(tǒng)EUV光刻，降低優(yōu)良制程成本。
2.光學(xué)器件與顯示技術(shù)
增強現(xiàn)實（AR）衍射光波導(dǎo)。
液晶顯示（LCD）導(dǎo)光板微結(jié)構(gòu)。
超表面透鏡（Metalens）的納米天線陣列。
優(yōu)勢：實現(xiàn)復(fù)雜光學(xué)結(jié)構(gòu)的低成本批量生產(chǎn)。
3.生物醫(yī)學(xué)與傳感器
微流控芯片（Lab-on-a-Chip）的納米通道。
表面增強拉曼散射（SERS）基底。
生物分子檢測的納米孔陣列。
優(yōu)勢：高精度結(jié)構(gòu)提升檢測靈敏度與特異性。
4.新能源與柔性電子
鈣鈦礦太陽能電池的納米陷光結(jié)構(gòu)。
柔性電子（如可穿戴傳感器）的導(dǎo)電圖案。
透明導(dǎo)電膜（如銀納米線網(wǎng)格）。
優(yōu)勢：兼容柔性基材（PET、PI），支持卷對卷（R2R）工藝。
5.防偽與裝飾
包裝的全息防偽標簽。
奢侈品表面的納米紋理裝飾（如抗指紋、啞光效果）。
優(yōu)勢：微結(jié)構(gòu)可定制化，難以復(fù)制。
