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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 參考價(jià) | 面議 |
更新時(shí)間：2024-05-17 10:31:13瀏覽次數(shù)：2291
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池 |
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勻膠旋涂?jī)xM-SPIN 200是用于均勻涂覆和干燥晶圓片或襯底。該勻膠旋涂?jī)x適用于直徑大為8英寸的晶圓片，或大為6英寸 x 6英寸的襯底。它可使用分配臂全自動(dòng)工作，分配移動(dòng)托盤，可定義數(shù)量。該勻膠旋涂?jī)x配備了頂蓋的聯(lián)鎖機(jī)制，和可視化全圖形觸摸面板。M-Spin 200勻膠旋涂?jī)x包含一個(gè)內(nèi)置模塊，該模塊連接到柔性電纜，外接到一個(gè)19英寸外部控件上。
勻膠旋涂?jī)xM-SPIN 200產(chǎn)品參數(shù)：
可處理襯底尺寸：直徑大為8英寸的晶圓片，或大為6英寸 x 6英寸的襯底；
旋轉(zhuǎn)速度：達(dá)9,000 rpm（以1 rpm步長(zhǎng)可調(diào)）；
固定晶圓片或襯底的裝置：真空托盤；
處理時(shí)間：（1-999秒，可在1秒內(nèi)調(diào)整）；
加速度：1-5,000rmp/sec；
其他參數(shù)：20個(gè)程序段，每個(gè)40步
設(shè)備尺寸：約 480mmx 360mm x 416mm(不帶蓋子)
控制器尺寸：約 145mmx 100mm x 120mm
產(chǎn)品選配件：
適用各種尺寸大小的托盤
分配臂
泵
主營(yíng)產(chǎn)品：
Laurell勻膠機(jī)
Harrick等離子清洗機(jī)
Thetametrisis膜厚儀
Microxact探針臺(tái)
ALD原子層沉積系統(tǒng)
TRION反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
Uvitron紫外固化箱
NXQ紫外曝光光刻機(jī)
Novascan紫外臭氧清洗機(jī)
Nilt納米壓印機(jī)
Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板
Annealsys高溫退火爐
Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng)
Wabash/Carver自動(dòng)壓片機(jī)
