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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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德國(guó)OEG接觸角測(cè)量?jī)x HL 200專(zhuān)用于半導(dǎo)體表面特性分析，搭載±0.1°超精測(cè)量模塊與智能滴液系統(tǒng)（最小液滴0.2μl），1秒完成晶圓潤(rùn)濕性檢測(cè)。360°全向掃描結(jié)合200mm真空載臺(tái)，無(wú)損定位超薄晶圓，精準(zhǔn)調(diào)控表面自由能，提升光刻膠結(jié)合力，降低缺陷率超30%。適配光刻膠開(kāi)發(fā)、拋光液驗(yàn)證等場(chǎng)景，確保5nm及更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)良率。
高精度晶圓表面能分析系統(tǒng)：HL 200 技術(shù)全覽
核心功能定位
專(zhuān)為半導(dǎo)體工藝研發(fā)的接觸角測(cè)量系統(tǒng)，通過(guò)±0.1°級(jí)接觸角精度與0.2μl微量液滴控制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)晶圓表面自由能（SFE）的動(dòng)態(tài)解析，直接優(yōu)化光刻膠附著力、旋涂均勻性及缺陷控制（<1μm線寬良率提升超30%）。
德國(guó)OEG接觸角測(cè)量?jī)x 硬件架構(gòu)亮點(diǎn)
精密機(jī)械系統(tǒng)：封閉式防塵結(jié)構(gòu)（400×300×300mm），集成特氟龍涂層晶圓臺(tái)（兼容200mm直徑），支持真空吸附與360°旋轉(zhuǎn)定位（x軸行程100mm）
光學(xué)成像模塊：500萬(wàn)像素USB攝像頭+固定焦距物鏡，搭配7級(jí)可調(diào)LED環(huán)形光源，0.01°級(jí)角度分辨率
滴液控制系統(tǒng)：5種配置可選（含雙自動(dòng)滴液模式），手動(dòng)三軸微調(diào)（x/y/z軸精度±0.1mm），最小液滴體積0.2μl（精度0.1μl）
測(cè)量效能突破
1秒快速檢測(cè)：實(shí)時(shí)高清視頻捕捉液滴形態(tài)，自動(dòng)計(jì)算接觸角并生成能值曲線
數(shù)據(jù)可溯性：Windows系統(tǒng)軟件同步顯示三維潤(rùn)濕分析圖與歷史數(shù)據(jù)對(duì)比，支持異常波動(dòng)預(yù)警
技術(shù)參數(shù)集
精度指標(biāo)：分辨率0.01° / 重復(fù)性±0.1° / 絕對(duì)精度±0.1°
兼容規(guī)格：玻璃注射器&一次性魯爾鎖針頭 / ISO 5級(jí)潔凈環(huán)境適配
工藝驗(yàn)證：成功應(yīng)用于12英寸晶圓產(chǎn)線，顯影缺陷率降低37%（45nm節(jié)點(diǎn)案例）
超微量分析：0.2μl液滴匹配微米級(jí)結(jié)構(gòu)表征需求，避免傳統(tǒng)μl級(jí)液滴對(duì)納米圖案的過(guò)度浸潤(rùn)干擾；
納米級(jí)靈敏度：0.01°分辨率可檢測(cè)單分子層吸附變化，助力原子層沉積（ALD）工藝的界面調(diào)控；
工業(yè)級(jí)可靠性：封閉式防塵結(jié)構(gòu)符合ISO 5級(jí)潔凈度要求，支持24/7連續(xù)運(yùn)行，年故障率＜0.1%。
