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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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Plasmionique 支持電子束蒸發(fā)和熱蒸發(fā) 鍍膜 具有以下顯著特點(diǎn)：
1.多功能材料處理
支持金屬、介電材料和有機(jī)材料的蒸發(fā)，采用蒸發(fā)舟、坩堝籃及低溫擴(kuò)散池（專為有機(jī)材料設(shè)計），滿足多樣化實(shí)驗(yàn)需求。
2.緊湊結(jié)構(gòu)與高真空性能
尺寸緊湊（約32英寸寬×22英寸深×24英寸高），沉積腔體直徑8英寸、高14英寸。
配備渦輪泵（80-90 L/s），基礎(chǔ)壓力低至10??~10?? Torr，確保潔凈的沉積環(huán)境。
3.自動化與智能控制
計算機(jī)控制的可編程電源（0-6 VDC，110A），集成PLASMICON控制軟件，支持工藝配方自動化。
10英寸觸摸屏實(shí)時監(jiān)控，實(shí)現(xiàn)全自動沉積流程與數(shù)據(jù)采集。
4.多樣化加熱源配置
可選金屬舟、籃式加熱器、氧化鋁涂層加熱器及低溫擴(kuò)散源，適應(yīng)不同溫度需求。
低溫擴(kuò)散池配備獨(dú)立電源和快門，提升操作靈活性。
5.精密沉積控制
至少一個石英晶體微量天平，精準(zhǔn)測量薄膜厚度并控制沉積速率。
6.兼容性與擴(kuò)展性
支持最大4英寸直徑的基板，滿足常見實(shí)驗(yàn)尺寸需求。
自動化排氣系統(tǒng)，提升操作便捷性。
7.定制化服務(wù)
可根據(jù)用戶需求提供個性化解決方案，搭配專業(yè)團(tuán)隊的技術(shù)支持。
Plasmionique 支持電子束蒸發(fā)和熱蒸發(fā) 鍍膜 以緊湊設(shè)計、高真空性能、智能控制及多材料兼容性為核心優(yōu)勢，適用于科研與工業(yè)領(lǐng)域的精密表面處理與薄膜沉積應(yīng)用。
