主要特點(diǎn)：

該納米壓印機(jī)利用紫外曝光或者熱壓固化實(shí)現(xiàn)壓印圖案在壓印高分子膠層中的復(fù)制，并通過各項(xiàng)功能與過程參量的優(yōu)化與篩選，通過遠(yuǎn)程PLC控制系統(tǒng)結(jié)合觸摸屏單元，實(shí)現(xiàn)納米壓印全過程的實(shí)時監(jiān)控與全自動化控制。

技術(shù)參數(shù)：

YPL-NIL-SI400納米壓印系統(tǒng)：

溫度范圍從室溫到250攝氏度；
壓力范圍從0到300個PSI（對于4英寸晶元）；
紫外曝光系統(tǒng)；
真空范圍從1個標(biāo)準(zhǔn)大氣壓到0.1帕；
水冷系統(tǒng)；
樣品尺寸直徑zui大4英寸；
PLC遠(yuǎn)程控制，帶觸摸屏；
手動裝載樣品和模板；
自帶機(jī)器控制軟件；
在軟件控制下可實(shí)現(xiàn)自動增加和釋放壓力；
可定制更大樣品尺寸或更大壓力系統(tǒng)的納米壓印機(jī)。

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