一、設(shè)備基本原理與特點(diǎn)

1. 基本原理：
V2MS17-真空氧化爐為氣體保護(hù)多用途爐，可滿足在還原氣體或成型氣體氣氛中對(duì)藍(lán)寶石退火，還原、燒結(jié)和表面處理等工藝需要，廣泛應(yīng)用于航空航天、金屬材料、粉末冶金、陶瓷產(chǎn)品、半導(dǎo)體器件、厚膜電路、磁性材料等領(lǐng)域。

2.設(shè)備特點(diǎn)：
1）具備完善的報(bào)警功能，更的安全連鎖保護(hù)系統(tǒng)；
2）完善的氣氛控制系統(tǒng)，滿足各種工藝需要；
3）高性能優(yōu)質(zhì)電氣元件保證設(shè)備長期運(yùn)行的穩(wěn)定可靠性；
4）低負(fù)荷加熱器，可有效提高設(shè)備的使用壽命。

二、V2MS17-真空氧化爐主要技術(shù)參數(shù)：