目錄:中美合資合肥科晶材料技術(shù)有限公司>>薄膜制備全套設(shè)備>>直流等離子磁控濺射鍍膜儀>> VTC-2DC直流等離子磁控濺射鍍膜儀
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更新時(shí)間:2024-10-22 15:50:29瀏覽次數(shù):3512評(píng)價(jià)
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直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)手。
用直流磁控濺射儀可獲得單相Al膜
直流等離子磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)
輸入電源 |
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等離子源 |
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磁控濺射頭 |
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真空腔體 |
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載樣臺(tái) |
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真空泵 | 可選用直聯(lián)式雙極旋片泵,也可選用德國(guó)制作的分子泵系統(tǒng) |
薄膜測(cè)厚儀 |
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外形尺寸 |
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重量 | 70Kg |
質(zhì)保和質(zhì)量認(rèn)證 |
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使用注意事項(xiàng) |
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(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)