納米壓印-光刻機
納米壓印光刻的更好解決方案
桌面R2P納米壓印機與今天仍然主導行業(yè)的傳統(tǒng)納米壓印工具相比，它是一種小型且具有成本競爭力的卷對板壓印。這種智能技術是納米壓印光刻平面和卷對板 （R2P） 設備。
我們的卷對板NIL工藝使用壓區(qū)壓印工藝以及可調節(jié)的壓印力，以最大限度地減少材料收縮，同時減少氣泡問題。這種壓印工藝減少了對基材一致性的要求，降低了成本，提高了產(chǎn)量。
在設計這款R2P納米壓印機時考慮到了節(jié)省成本，同時旨在制造具有高質量輸出的機器;通過對每小時多達 60 個印版/晶圓進行定期性能評估，在大批量使用中不會影響質量。
桌面式R2P納米打印機通過快速測試新設計，允許開發(fā)周期的快速迭代;因此，它是原型制作的設備。
該設備使用戶能夠嘗試和測試許多壓印技術;光固化樹脂和加工參數(shù)，如壓力、速度和光強度。這些檢查對于在大規(guī)模生產(chǎn)之前進行擴展非常有用 - 在內部構建原型的能力將節(jié)省時間和資源。臺式R2P納米壓印機還允許從易于使用的DIY耗材開發(fā)壓印模板
該打印機包括光學引擎，該引擎提供具有被動冷卻功能的長壽命（395nm）發(fā)光二極管（LED），以及可選的內置水冷功能，可滿足各種曝光需求。
我們在光學引擎中使用發(fā)光二極管來生產(chǎn)更大的產(chǎn)量。這取代了氣體放電管輕型發(fā)動機。光學引擎是臺式R2P納米壓印機的重要組成部分，因為它提供了在我們的光固化樹脂中產(chǎn)生快速化學反應所需的高度聚焦的光子能量，將聚合物狀態(tài)從彈性變?yōu)樗芰稀?/span>
最大印跡尺寸：最大 105 x188 mm （寬 x 長），
基板厚度：最大 11 mm
復制速度：每小時 60 次手動復制（速度高達 5 米/分鐘）
速度范圍 0.1 至 5 米/分鐘。
光學固化引擎：長壽命395nm LED
最大功率：在 5 米/分鐘時高達 120mJ/cm2。
設備尺寸和重量：670x380x320毫米（長x寬x高），26公斤
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