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| 供貨周期 | 一個月 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
|---|---|---|---|
| 主要用途 | 光刻工藝用的化學品 |
負性光刻膠 （SU-8）-光刻機用
SNR負性光刻膠，針對微機械加工微電子應(yīng)用，高對比度，環(huán)氧樹脂類負性光刻膠。
具有垂直側(cè)壁的高縱橫比成像
近紫外（350-400nm）處理
單旋涂膜厚度為1.5至200µm
高度耐化學性和耐溫度性
與已建立的SU-8光刻工藝兼容
微機械加工微電子應(yīng)用
高對比度環(huán)氧樹脂負片光刻膠
具有垂直側(cè)壁的高縱橫比成像
近紫外（350, 400nm）處理
單層旋涂膜厚度為0.5至200µm
高度耐化學性和耐溫度性
兼容既定的SU8光刻工藝
負性光刻膠 （SU-8）-光刻機用
| ENPR Series | Viscosity (cP) | Thickness (um) | Exposure Energy (mJ/?) |
| C5 | 53 | 4 - 8 | 100 - 120 |
| C7 | 165 | 6 - 13 | 110 - 125 |
| C10 | 455 | 9 - 21 | 120 - 140 |
| C15 | 1500 | 13 - 46 | 125 - 180 |
| C25 | 5490 | 18 - 70 | 135 - 200 |
| C50 | 15900 | 40 - 155 | 165 - 295 |
| C75 | 27200 | 60 - 240 | 190 - 360 |
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