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武漢華科達(dá)實(shí)驗(yàn)設(shè)備有限公司

主營產(chǎn)品: 電子天平,離心機(jī),凈化工作臺(tái),顯微鏡,低溫保存箱

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武漢市江漢區(qū)新華下路226號(hào)
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CHI440C電化學(xué)石英晶體微天平工作站
電化學(xué)石英晶體微天平工作站
參考價(jià) 57600
訂貨量 1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào) CHI440C
  • 品牌 上海辰華
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 武漢市

更新時(shí)間:2025-02-28 10:51:17瀏覽次數(shù):92

聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!

【簡單介紹】
產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 5萬-7萬
儀器種類 電化學(xué)工作站 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,生物產(chǎn)業(yè),制藥
CHI400C系列時(shí)間分辨電化學(xué)石英晶體微天平工作站(EQCM)可進(jìn)行極靈敏的物質(zhì)分析和測量。
【詳細(xì)說明】

CHI400C系列電化學(xué)石英晶體微天平工作站

 

         CHI400C系列時(shí)間分辨電化學(xué)石英晶體微天平工作站(EQCM)可進(jìn)行極靈敏的物質(zhì)分析和測量。在適當(dāng)?shù)臈l件下,石英晶體上沉積的質(zhì)量變化和振動(dòng)頻率移動(dòng)之間關(guān)系呈簡單的線性關(guān)系(Sauerbrey公式)

         Df = -2foDm / [A · sqrt(mr)]

         式中是fo晶體的基本諧振頻率,A是鍍?cè)诰w上金盤的面積,r是晶體的密度(=2.684g/cm3),m是晶體切變系數(shù)(= 2.9471011 g/cm·s2)。對(duì)于我們的晶體(f= 7.995MHz, A = 0.196 cm2),每赫茲的頻率改變相當(dāng)于1.34 ngQCMEQCM被廣泛應(yīng)用于金屬沉積,高分子膜中離子傳遞,生物傳感器,以及吸附解吸動(dòng)力學(xué)的研究等等。

CHI400C系列電化學(xué)石英晶體微天平含石英晶體振蕩器,頻率計(jì)數(shù)器,快速數(shù)字信號(hào)發(fā)生器,高分辨高速數(shù)據(jù)采集系統(tǒng),電位電流信號(hào)濾波器,信號(hào)增益,iR降補(bǔ)償電路,以及恒電位儀/恒電流儀(440C)。電位范圍為±10V,電流范圍為±250mA。電流測量下限低于50pA。石英晶體微天平和恒電位儀/恒電流儀集成使得EQCM測量變得十分簡單方便。CHI400C系列采用時(shí)間分辨的方式測量頻率的改變。傳統(tǒng)的方法是采用頻率直接計(jì)數(shù)的方法,要得到1HzQCM分辨率,需要1秒的采樣時(shí)間。要得到0.1HzQCM分辨率,需要10秒的采樣時(shí)間。我們是將QCM的頻率和一標(biāo)準(zhǔn)頻率的差值作周期測量,從而大大縮短了采樣時(shí)間,提高了時(shí)間分辨。我們可在毫秒級(jí)的時(shí)間里得到1Hz0.1Hz或更好的頻率分辨。當(dāng)和循環(huán)伏安法結(jié)合時(shí),可允許在0.5V/s的掃描速度下獲得QCM的信號(hào)。這對(duì)需要較快速的測量(例如動(dòng)力學(xué)測量)尤為重要。允許與QCM結(jié)合的電化學(xué)實(shí)驗(yàn)技術(shù)包括CV,LSV,CAi-t,CP

400C系列在測量QCM頻率變化的同時(shí),還能測量晶體諧振網(wǎng)絡(luò)的電阻變化。

400C系列也是相當(dāng)快速的儀器。信號(hào)發(fā)生器的更新速率為10MHz,數(shù)據(jù)采集速率為1MHz。循環(huán)伏安法的掃描速度為1000V/s時(shí),電位增量僅0.1mV。又如交流伏安法的頻率可達(dá)10KHz。儀器可工作于二,三,或四電極的方式。四電極對(duì)于大電流或低阻抗電解池(例如電池)十分重要,可消除由于電纜和接觸電阻引起的測量誤差。由于儀器集成了多種常用的電化學(xué)測量技術(shù),使得儀器可用作通用電化學(xué)測量,也可單獨(dú)用作石英晶體微天平的測量(不同時(shí)進(jìn)行電化學(xué)測量)。

CHI400C系列EQCM還包括一個(gè)特殊設(shè)計(jì)的電解池,如圖1(a)所示。電解池由三塊圓形的聚四氟乙烯組成。直徑為35mm,總高度為37mm。最上面的是蓋子,用于安裝參比電極和對(duì)極。中間的是用于放溶液的池體。石英晶體被固定于中間和底下的部件之間,通過橡膠圈密封,并用螺絲固定。石英晶體的直徑為13.7mm,晶體兩面的中間鍍有5.1mm直徑的金盤電極(其它電極材料需特殊定做)。新晶體的諧振頻率是7.995 MHz

         2顯示了1mM Pb2+0.1MHClO4溶液中欠電位沉積的循環(huán)伏安圖和作為電位函數(shù)的相應(yīng)的頻率改變。掃描速度為0.05V/s。在-0.42V出現(xiàn)的陰極峰是由于單層欠電位沉積。-0.29V處的陽極峰是由于鉛的溶出。頻率-電位圖顯示了由于鉛沉積而使頻率下降了25Hz(相當(dāng)于33.5ng)

電化學(xué)石英晶體微天平工作站

硬件參數(shù)指標(biāo)

 

 

恒電位儀

恒電流儀 (Model440C)

電位范圍: -10to10V

電位上升時(shí)間: <2微秒

槽壓±12V

三電極或四電極設(shè)置

電流范圍: 250mA

參比電極輸入阻抗: 11012歐姆

靈敏度: 110-12-0.1A/V12檔量程

輸入偏置電流: <50pA

電流測量分辨率: <1pA

CV的最小電位增量: 0.1mV

電位更新速率: 10MHz

數(shù)據(jù)采集: 16位分辨@1MHz

自動(dòng)及手動(dòng)iR降補(bǔ)償

 

CVLSV掃描速度: 0.000001-5000V/s

電位掃描時(shí)電位增量: 0.1mV@1000V/s

CACC脈沖寬度: 0.0001-1000sec

CACC階躍次數(shù): 320

DPVNPV脈沖寬度: 0.001Hz-10sec

SWV頻率:1Hz-100kHz

ACV頻率: 0.1Hz-10kHz

SHACV頻率: 0.1Hz-5kHz

自動(dòng)電位和電流零位調(diào)整

電流測量低通濾波器,自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置,覆蓋八個(gè)數(shù)量級(jí)的頻率范圍

旋轉(zhuǎn)電極控制輸出: 0-10V(430C以上型號(hào))

電解池控制輸出通氮,攪拌,敲擊

最大數(shù)據(jù)長度: 256K-16384K點(diǎn)可選

儀器尺寸 37 cm ( 23   cm ( 12   cm ()

儀器重量: 3.3kg

 

 

CHI400C系列儀器不同型號(hào)的比較

 

功能

400C

410C

420C

430C

440C

循環(huán)伏安法(CV

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線性掃描伏安法(LSV#

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階梯波伏安法(SCV#




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Tafel圖(TAFEL




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計(jì)時(shí)電流法(CA

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計(jì)時(shí)電量法(CC

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差分脈沖伏安法(DPV#


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常規(guī)脈沖伏安法(NPV#


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差分常規(guī)脈沖伏安法(DNPV#





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方波伏安法(SWV#



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交流(含相敏)伏安法(ACV#




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二次諧波交流(相敏)伏安法(SHACV#




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電流-時(shí)間曲線(i-t




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差分脈沖電流檢測(DPA





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雙差分脈沖電流檢測(DDPA





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三脈沖電流檢測(TPA





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控制電位電解庫侖法(BE

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流體力學(xué)調(diào)制伏安法(HMV





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掃描-階躍混合方法(SSF





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多電位階躍方法(STEP





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計(jì)時(shí)電位法(CP





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電流掃描計(jì)時(shí)電位法(CPCR





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多電流階躍ISTEP





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電位溶出分析(PSA





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開路電壓-時(shí)間曲線(OCPT

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恒電流儀





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RDE控制(0-10V輸出)




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任意反應(yīng)機(jī)理CV模擬器




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預(yù)設(shè)反應(yīng)機(jī)理CV模擬器

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價(jià)格(元)*

32,300

32,300

41,500

50,700

57,600

 

注: #:包括相應(yīng)的極譜法和溶出伏安法.用于極譜法時(shí)需要特殊的靜汞電極或敲擊器.

         *:價(jià)格不包括計(jì)算機(jī).儀器的保修期為一年




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