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目錄:北京精科智創(chuàng)科技發(fā)展有限公司>>材料樣品高低溫冷熱臺(tái)>>冷熱臺(tái)>> JK-CH600190-XRD光學(xué)冷熱臺(tái)

JK-CH600190-XRD光學(xué)冷熱臺(tái)
  • JK-CH600190-XRD光學(xué)冷熱臺(tái)
  • JK-CH600190-XRD光學(xué)冷熱臺(tái)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 北京市
屬性

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更新時(shí)間:2024-10-29 17:04:49瀏覽次數(shù):689評(píng)價(jià)

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,能源,電子,電氣,綜合
JK-CH600190-XRD光學(xué)冷熱臺(tái)是一種安裝在X-射線衍射儀上研究樣品變溫X-射線衍射的附件。產(chǎn)品采用液氮致冷、電阻加熱的方式,提供-190~600℃(選型)或RT~1000℃(選型)溫度范圍內(nèi)的氣氛/真空測(cè)試環(huán)境。適合于粉末、片材樣品在變溫下進(jìn)行X-射線結(jié)構(gòu)研究,適配現(xiàn)有各種X-射線衍射儀(布魯克、賽默飛、理學(xué)等)。

JK-CH600190-XRD光學(xué)冷熱臺(tái)

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JK-XRD原位冷熱臺(tái)是一種安裝在X-射線衍射儀上研究樣品變溫X-射線衍射的附件。產(chǎn)品采用液氮致冷、電阻加熱的方式,提供-190~600℃(選型)或RT~1000℃(選型)溫度范圍內(nèi)的氣氛/真空測(cè)試環(huán)境。適合于粉末、片材樣品在變溫下進(jìn)行X-射線結(jié)構(gòu)研究,適配現(xiàn)有各種X-射線衍射儀(布魯克、賽默飛、理學(xué)等)。

產(chǎn)品需要與溫度控制器、致冷控制器(選配)配套使用,配套的上位機(jī)溫控軟件方便進(jìn)行溫度設(shè)置及采集,提供的Labview Vis方便客戶進(jìn)行定制化編程。

光學(xué)冷熱臺(tái)產(chǎn)品特點(diǎn):

溫度范圍-190~600℃(選型)/RT~1000℃(選型)

溫度穩(wěn)定性±0.1℃(<600℃)±1℃(>600℃)

衍射角0~164°

X射線視窗Kapton膜

支持反射/透射模式

密腔室設(shè)計(jì),可升級(jí)真空腔室(10^(-3) mBar)

可更換上蓋,作為普通冷熱臺(tái)使用

可調(diào)節(jié)高度,滿足不同厚度樣品測(cè)試更換上蓋,可用作光學(xué)冷熱臺(tái),實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用

詳細(xì)參數(shù)一覽表:

XRD原位冷熱臺(tái)

JK-CH600190XV

JK-H1200XV

溫控模塊

冷熱方式

液氮致冷,電阻加熱

電阻加熱

溫控范圍

-190~600℃ *

RT~1200℃ *

溫度穩(wěn)定性

±0.1℃(<600℃),±1℃(>600℃)*

溫度分辨率

0.1℃

升降溫速率

0~30℃/min(可定點(diǎn) / 程序段控溫)

溫控方式

PID

溫度傳感器

PT100 

熱電偶

光學(xué)特性

光路

反射 *

X射線透射膜

Kapton膜

結(jié)構(gòu)特性

樣品臺(tái)尺寸

23×23mm *

12x12mm *

樣品臺(tái)材質(zhì)

銀質(zhì) *

陶瓷 *

外形尺寸

100×100×73mm *

腔室

真空

外殼冷卻

循環(huán)水

基本配置

XRD原位冷熱臺(tái)x1、溫度控制器x1、致冷控制器x1(低溫配置)、液氮罐x1(低溫配置)、定制支架x1、溫控軟件x1、循環(huán)水系統(tǒng)x1、連接管路若干

選配

電腦主機(jī)/定制溫控軟件/定制光學(xué)蓋板

備注

以上均為默認(rèn)參數(shù)    * 為可定制項(xiàng)

其他可選型號(hào)

CH400-100-X(-100~400℃)

產(chǎn)品應(yīng)用:

搭配理學(xué)X射線衍射儀 ↓

搭配理學(xué)X射線衍射儀.jpg

 

搭配賽默飛X射線衍射儀 ↓

搭配賽默飛X射線衍射儀.jpg 

搭配布魯克X射線衍射儀 ↓

搭配布魯克X射線衍射儀.jpg

 

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