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全自動X光沉降粒度分析儀

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具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號SediGraph III Plus 5125

品       牌micromeritics/麥克默瑞提克

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海市

更新時間:2024-11-08 19:57:22瀏覽次數(shù):97次

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 分散方式 干濕法分散
價格區(qū)間 面議 儀器種類 動態(tài)光散射
應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥
SediGraph III Plus 5125
全自動X光沉降粒度分析儀
可靠且成熟的粒度分析儀
在過去的 50 多年,是全球沉降粒度分析領(lǐng)域的標準
根據(jù)斯托克斯定律確定粒徑
粒徑分析時實時監(jiān)測顆粒沉降過程并查看報告的粒徑結(jié)果
全自動運行并通過先進的軟件界面實現(xiàn)控制
可選配 MasterTech 自動進樣器實現(xiàn)高通量測試
礦業(yè)、地質(zhì)和陶瓷等眾多主流行業(yè)的行業(yè)標準
符合 ASTM B761-0

SediGraph III Plus 5125

全自動X光沉降粒度分析儀

可靠且成熟的粒度分析儀

  • 在過去的 50 多年,是全球沉降粒度分析領(lǐng)域的標準

  • 根據(jù)斯托克斯定律確定粒徑

  • 粒徑分析時實時監(jiān)測顆粒沉降過程并查看報告的粒徑結(jié)果

  • 全自動運行并通過先進的軟件界面實現(xiàn)控制

  • 可選配 MasterTech 自動進樣器實現(xiàn)高通量測試

  • 礦業(yè)、地質(zhì)和陶瓷等眾多主流行業(yè)的行業(yè)標準

  • 符合 ASTM B761-06 和先進陶瓷委員會 C28 的要求


SediGraph III Plus 基于直接檢測質(zhì)量濃度確定粒度分布和統(tǒng)計數(shù)據(jù),例如 D10、D50 和 D90。 只需一鍵即可獲得基本和高級報告。 SediGraph III Plus 可選配 MasterTech 自動進樣器,連續(xù)監(jiān)測生產(chǎn)過程,并將數(shù)據(jù)推送到網(wǎng)絡(luò)或云端以供遠程訪問。

 

性能與優(yōu)點:

智能設(shè)計特性

SediGraph III Plus 粒度分析儀先進的設(shè)計確保了測量的重復(fù)性和使用的便利性。 全新功能使得儀器的操作和維護更加輕松,并且能夠確保對同一樣品在任意一臺 SediGraphs 儀器上都能獲得可靠、重現(xiàn)的結(jié)果。

 

設(shè)計改進包括:

  • 完整的顆粒分析,能夠確保對樣品中的所有顆粒進行分析,包括粒徑小于 0.1 µm 的部分

  • 能夠與其他粒徑測量方法獲得的數(shù)據(jù)合并,從而將數(shù)據(jù)報告范圍擴展到 125000 µm (125 mm),在地質(zhì)學(xué)方面有很好的應(yīng)用

  • 自下而上地掃描沉降池,能夠準確地獲取快速沉降顆粒的總數(shù),同時盡可能縮短細顆粒分離所需的時間

  • 全自動操作模式能夠提高樣品分析通量,并且減少人為操作步驟,以降低由人為操作造成的測量誤差

  • 溫控分析可確保在整個分析過程中液體的性質(zhì)保持恒定,獲得精確的分析結(jié)果

  • 多種分析速度,可根據(jù)實際需要選擇速度和分辨率

  • 實時顯示,能夠監(jiān)控當前分析的累積質(zhì)量圖,以便根據(jù)需求即時修正分析程序

  • 統(tǒng)計過程控制(SPC)報告能夠跟蹤過程性能,便于立即對波動變化作出響應(yīng)

  • 多圖疊加功能,能夠?qū)Ψ治鼋Y(jié)果進行可視化比較,例如,與參考樣品或基線疊加,或?qū)⑼环治鰯?shù)據(jù)的兩種不同類型結(jié)果圖疊加

  • 數(shù)據(jù)比較圖,能夠以圖表形式顯示兩組數(shù)據(jù)集之間的數(shù)學(xué)差(與參考樣品圖的差異)或某個數(shù)據(jù)點值高于或低于容差范圍的程度(超標圖)

  • 多分析儀控制,允許使用同一臺計算機控制兩臺 SediGraph ,節(jié)省寶貴的實驗室空間,方便數(shù)據(jù)存儲



規(guī)格

顆粒粒徑范圍:0.1 – 300 µm 當量球徑
接觸液體材質(zhì):不銹鋼、特氟龍浸漬陽極氧化鋁、鍍鎳鋁、尼龍、聚丙烯、聚苯乙烯、聚乙烯和 Pharmed 管、碳化鎢、超白鋼、氟化橡膠、橡膠 和環(huán)氧樹脂
樣品量:50 mL 分散的樣品 – 無需精確的濃度控制
分散劑:與樣品池材料兼容,且不吸收 X 光的液體(如水、乙二醇、礦物油、SediSperse® 和乙醇)
電源要求:85 – 264 VAC,47/63 Hz,450 VA
溫度:運行環(huán)境溫度 + 10 °C 至 40 °C;儲存或運輸溫度范圍為 -10 °C 至 55 °C
濕度:20% 至 80%(無冷凝)
其他信息:ISO 9001 制造商 CE 認證
實體規(guī)格:高度: 52 cm(20.5 英寸)
寬度: 50.5 cm(20 英寸)
深度: 58 cm(23 英寸)
重量: 43 kg(95 磅)






















技術(shù)

Micromeritics的 SediGraph 是全球眾多實驗室粒度分析的標準儀器。 無論是在惡劣的生產(chǎn)環(huán)境中還是在受控的實驗室環(huán)境下,SediGraph 憑借其的性能,提供可靠準確的結(jié)果。 該儀器采用X光沉降法測量粒度分布,通過樣品對 X 射線的吸收直接測量顆粒質(zhì)量。 SediGraph根據(jù)斯托克斯定律,通過測量顆粒在已知特性的液體中的沉降速率,能夠得出粒徑范圍在 0.1 – 300 µm間樣品顆粒的等效球徑。

新一代 SediGraph III Plus 粒度分析儀結(jié)合成熟及改進的分析技術(shù),能夠提供具備更高重復(fù)性和準確度的顆粒粒徑信息,大多數(shù)分析在幾分鐘內(nèi)即可完成。

 

  • 完整的顆粒分析,能夠確保對樣品中的所有顆粒進行分析,包括粒徑小于 0.1 µm 的部分

  • 能夠與其他粒徑測量方法獲得的數(shù)據(jù)合并,從而將數(shù)據(jù)報告范圍擴展到 125000 µm (125 mm),在地質(zhì)學(xué)方面具有很好的應(yīng)用

  • 自下而上地掃描沉降池,能夠準確地獲取快速沉降的顆粒總數(shù),同時盡可能縮短細顆粒分離所需的時間

  • 全自動操作模式能夠提高樣品分析通量,并且減少人為操作步驟,以降低由人為操作造成的測量誤差

  • 溫控分析可確保在整個分析過程中液體的性質(zhì)保持恒定,獲取精確的分析結(jié)果

  • 多種分析速度,可根據(jù)實際需要選擇速度和分辨率

  • 實時顯示,能夠監(jiān)控當前分析的累積質(zhì)量圖,以便根據(jù)需求即時修正分析程序

  • 統(tǒng)計過程控制(SPC)報告能夠跟蹤過程性能,便于立即對波動變化作出響應(yīng)

  • 多圖疊加功能,能夠?qū)Ψ治鼋Y(jié)果進行可視化比較,例如,與參考樣品或基線疊加,或者將同一分析數(shù)據(jù)的兩種不同類型結(jié)果圖疊加

  • 數(shù)據(jù)比較圖,能夠以圖表形式顯示兩組數(shù)據(jù)集之間的數(shù)學(xué)差(與參考樣品圖的差異)或某個數(shù)據(jù)點值高于或低于容差范圍的程度(超標圖)

  • 多分析儀控制,允許使用同一臺計算機控制兩臺 SediGraph ,節(jié)省寶貴的實驗室空間,方便數(shù)據(jù)存儲


應(yīng)用

陶瓷:顆粒的粒度范圍和質(zhì)量分布極大影響陶瓷粉末的燒結(jié)能力、成型性能乃至成品中的孔徑分布。 顆粒粒度分布信息有利于檢測固化和粘合過程、控制孔結(jié)構(gòu)、確保足夠的生坯強度,以獲取所需強度、質(zhì)構(gòu)、外觀和密度的最終產(chǎn)品。

金屬粉末:通過控制粒度分布,能夠在產(chǎn)品中設(shè)計特定的孔結(jié)構(gòu)??紫堵侍匦酝ǔJ钱a(chǎn)品性能的關(guān)鍵。與陶瓷相似,粒度分布對生坯、最終產(chǎn)品強度和密度都至關(guān)重要。

地質(zhì)/土壤科學(xué):顆粒粒徑會影響土壤的保水能力、排水速度和土壤保持養(yǎng)分的能力。顆粒直徑關(guān)系到沉淀物的轉(zhuǎn)移。

化妝品:化妝品的外觀、使用和包裝直接受基礎(chǔ)原料如滑石粉和著色劑顆粒粒度分布的影響。

顏料:僅粒徑一項就會影響顏色的著色強度。 隨著著色強度的提高,產(chǎn)生相應(yīng)顏色強度所需的顏料量相應(yīng)下降。粒徑也會影響涂料的遮蓋力。同時粒徑分布也會影響光澤、質(zhì)地、顏色飽和度和亮度度。

催化劑:粒徑直接影響金屬對結(jié)構(gòu)敏感催化反應(yīng)的金屬催化活性。

建筑材料:水泥的粒徑會影響成品混凝土和水泥的凝結(jié)時間和強度特性。

礦物和無機化學(xué)品:材料的反應(yīng)性取決于暴露的表面積和粒度分布。

磨料:無論磨料顆粒和粉末是用于漿料、干噴射處理或固結(jié)研磨工具,這類材料均衡的粒度分布是基本的考慮因素。均勻的粒徑可確保通過噴砂機時精確的流速,并且是研磨介質(zhì)循環(huán)使用的關(guān)鍵因素。



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