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納糯三維科技(上海)有限公司Nanoscribe>>高精度微納米激光直寫系統(tǒng)>>Quantum X.>> Quantum X alignNanoscribe QX系列雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)

Nanoscribe QX系列雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)

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  • Nanoscribe QX系列雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)
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  • 型號 Quantum X align
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海市
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更新時(shí)間:2024/10/24 14:33:10瀏覽次數(shù):1992

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產(chǎn)品簡介

應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,包裝/造紙/印刷,綜合 打印技術(shù) 基于雙光子聚合的逐層三維打印,具有體素調(diào)節(jié)能力的雙光子灰度光刻
3D對準(zhǔn)精度 低至100?nm?(xy)?/?500?nm?(z) 形狀精度 ≤?200?nm?(ISO?25178)
可實(shí)現(xiàn)的耦合損耗 ≤?1?dB 表面粗糙度?Ra ≤?10?nm
Nanoscribe QX系列雙光子無掩膜光刻系統(tǒng) - Quantum X align作為行業(yè)內(nèi)認(rèn)證的3D打印設(shè)備具備了對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)A2PL®,可實(shí)現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級精確對準(zhǔn)。

詳細(xì)介紹

Nanoscribe QX系列雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)最高分辨率
A2PL®技術(shù)3D打印應(yīng)用于納米級精度對準(zhǔn)

全新Quantum X align對準(zhǔn)雙光子光刻(A2PL®)系統(tǒng)通過新添加的高精度對準(zhǔn)功能實(shí)現(xiàn)了對高精度結(jié)構(gòu)的精準(zhǔn)放置,增強(qiáng)了Nanoscribe已受大眾認(rèn)可的三維微納加工技術(shù)。這款具備納米級精度對準(zhǔn)3D打印功能的最高分辨率打印設(shè)備利用A2PL技術(shù),自由曲面微光學(xué)原件可以以亞微米精度精準(zhǔn)對齊打印到光纖或光子芯片光軸上??蓱?yīng)用于生產(chǎn)用于光子集成和封裝或小型化成像光學(xué)器件的高效光學(xué)互連,例如用于微創(chuàng)內(nèi)窺鏡檢查等。


從對準(zhǔn)到打印一步完成

集成光子學(xué)或小型化醫(yī)療設(shè)備的封裝通常需要各種微光學(xué)元件相互之間進(jìn)行繁瑣的放置和A2PL光學(xué)接口對準(zhǔn)流程。Quantum X align簡化了這一過程,A2PL技術(shù)實(shí)現(xiàn)了光子芯片或光纖芯上的光學(xué)接口及其空間方向的自動檢測,以及自由曲面微光學(xué)或衍射元件可直接打印到位。在實(shí)現(xiàn)更緊湊設(shè)備的同時(shí)減少了裝配工差,并大大降低了工藝鏈的復(fù)雜性,避免了原本耗資巨大的手動對準(zhǔn)流程。

對準(zhǔn)光纖和光子芯片

當(dāng)在單劈型光纖或v型槽光纖陣列上打印時(shí),自動3D光纖芯檢測系統(tǒng)和自動傾斜校正功能確保了精確對準(zhǔn)和低耦合損耗。
Quantum X align還具有共焦成像模塊,用于基底拓?fù)?D構(gòu)圖,并可自動對準(zhǔn)預(yù)定義的標(biāo)記或波導(dǎo)。這使得Quantum X align成為將微光學(xué)元件直接打印到光子芯片表面或刻面上的
有效工具,適用于工業(yè)制造中的光子封裝。

精準(zhǔn)實(shí)現(xiàn)您的想法

具有納米級精度的3D對準(zhǔn)系統(tǒng),加上強(qiáng)大且用戶友好的工作流程,為三維微納光學(xué)以外的其他微納加工應(yīng)用開辟了新的機(jī)會。從微流體到復(fù)雜的傳感器系統(tǒng)或MEMS: Quantum X align是高精度3D微納加工的有效工具,可在復(fù)雜3D基底上以最高精度實(shí)現(xiàn)自動定位。


Nanoscribe QX系列雙光子無掩膜光刻系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)
  • 通過對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)(A2PL)實(shí)現(xiàn)高性能3D微納加工

  • 在光纖上進(jìn)行3D打印: 基于纖芯檢測功能實(shí)現(xiàn)在光纖表面精確對準(zhǔn)打印

  • 在芯片上進(jìn)行3D打印: 基于3D基底拓?fù)錁?gòu)圖在芯片表面或刻面上精確對準(zhǔn)打印

  • 3D對準(zhǔn)技術(shù):自動檢測和三個(gè)旋轉(zhuǎn)軸上襯底傾斜補(bǔ)償

  • 高速微納加工智能切片

打印程序和工作流程
  • 基于雙光子聚合(2PP)的高精度3D打印

  • 采用Dip-in激光光刻(DiLL)進(jìn)行簡單、可靠的設(shè)置

  • 100納米特征尺寸控制

  • 對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)(A2PL)在預(yù)定義位置實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)3D打印


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