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應(yīng)用領(lǐng)域	化工,石油,地礦,能源,建材

鉭靶

產(chǎn)品名稱：靶材
牌號(hào)：Ta1.Ta2.TaW2.5.TaW10.
標(biāo)準(zhǔn)：GB/3629-2006
純度：≥99.95%
狀態(tài)：退火態(tài)（M）或硬態(tài)（Y）
尺寸：原片，管狀，顆粒，平面

外徑（mm）	厚度（mm）	表面粗糙度	平面度
50~400	3~50	32Rms	≤0.15%
注：特殊產(chǎn)品需供需雙方協(xié)商解決。

成分要求：

牌號(hào)	元素含量 (質(zhì)量分?jǐn)?shù)%)
牌號(hào)	C	N	O	H	Fe	Si	Ni	Ti	Mo	W	Nb	Ta
Ta1	0.01	0.005	0.015	0.0015	0.005	0.005	0.002	0.002	0.01	0.01	0.05	余量
Ta2	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.02	0.005	0.005	0.03	0.04	0.1	余量
TaNb3	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.03	0.04	1.5~3.5	余量
TaNb20	0.02	0.025	0.03	0.005	0.03	0.03	0.005	0.005	0.02	0.04	17~23	余量
TaNb40	0.01	0.01	0.02	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	0.05	35~42	余量
TaW2.5	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	2.0~3.5	0.5	余量
TaW7.5	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	6.5~8.5	0.5	余量
TaW10	0.01	0.01	0.015	0.0015	0.01	0.005	0.01	0.01	0.02	9.0~11	0.1	余量

鉭靶應(yīng)用：鉭濺射靶材是通過(guò)壓力加工獲得的鉭片材，化學(xué)純度高，晶粒尺寸小，再結(jié)晶組織和三個(gè)軸向的一致性好，

主要應(yīng)用于光導(dǎo)纖維，半導(dǎo)體晶片和集成電路的濺射沉積鍍膜，靶材可用于陰極濺射涂層，高真空吸氣活性材料等.

是重要的薄膜技術(shù)用材料。

本公司是專業(yè)從事鈦及鈦合金、難熔、稀有等有色金屬材料加工、生產(chǎn)、開發(fā)、銷售為一體的綜合性企業(yè).企業(yè)固定資產(chǎn)800多萬(wàn)元，年產(chǎn)量120噸，可實(shí)現(xiàn)年產(chǎn)值2000萬(wàn)元。擁有3噸的真空熔爐1套、2500噸液壓機(jī)1臺(tái)、精鍛機(jī)2臺(tái)、熱、冷軋機(jī)各1臺(tái)、數(shù)控車床數(shù)臺(tái)、無(wú)心磨、機(jī)械加工中心1套、另有各項(xiàng)檢測(cè)儀器數(shù)臺(tái)，擁有專業(yè)學(xué)歷博士生等人才5名、專業(yè)技術(shù)人員16名。本公司生產(chǎn)高品質(zhì)鉭，鈮，鎢，鉬，鈦及鈦合金產(chǎn)品，主要應(yīng)用于醫(yī)療器械、人體植入物，航天航空，，船舶，石油，機(jī)械制造，電子化工，儀器儀表，真空鍍膜等領(lǐng)域。公司還致力于鋯-702、等特殊材料加工材的研究與開發(fā)，采用*的加工技術(shù)為各行業(yè)提供各種優(yōu)質(zhì)的有色金屬加工材系列產(chǎn)品.公司產(chǎn)品執(zhí)行GB/T、GJB、AMS、ASTM、ISO等標(biāo)準(zhǔn)。
“建設(shè)好的企業(yè)團(tuán)隊(duì)，持續(xù)不斷的改進(jìn)管理及制造方式，讓每一位客戶從每一件產(chǎn)品中獲得大收益”