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產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

·全封閉式顯影，避免霧氣擴(kuò)散到外部，污染環(huán)境。

·外殼噴塑，耐腐蝕，易清洗。

·內(nèi)腔鍍特氟龍，光滑，耐腐蝕，易清洗。

·內(nèi)置真空過(guò)濾器，防止液體吸入真空泵。

·真空壓力可調(diào)，壓力值實(shí)時(shí)顯示。

·液體流量可調(diào)，回吸可調(diào)。

產(chǎn)品參數(shù)

支持wafer尺寸：碎片至200mm（8"圓晶）

·轉(zhuǎn)速分辨率：±1 RPM

·旋涂速度：20-3000rpm（空載）

·旋涂加速度：10-10,000rpm/sec（空載）

·工藝時(shí)間設(shè)定： 0-3,000sec/step，時(shí)間設(shè)置精度： 0.1sec

·該機(jī)型適用于標(biāo)準(zhǔn)3路顯影機(jī)（1路洗衣液，1路純水，1路氮?dú)猓?/span>

·單步工藝及多步工藝可選，內(nèi)置100組可編輯程序

·可根據(jù)客戶需求定制四管路顯影機(jī)或更大基片的顯影機(jī)。

設(shè)備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能，并且噴嘴位置可程控移動(dòng)，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)顯影和清洗作業(yè)。