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原子層沉積表面改造提升處理系統(tǒng) 存儲電容器絕緣層-銅連線間的高縱橫比擴(kuò)散勢壘區(qū)有機(jī)發(fā)光二極管和聚合物的無針孔鈍化層鈍化晶體硅太陽能電池

原子層沉積表面改性設(shè)備分子涂層 存儲電容器絕緣層-銅連線間的高縱橫比擴(kuò)散勢壘區(qū)有機(jī)發(fā)光二極管和聚合物的無針孔鈍化層鈍化晶體硅太陽能電池

全自動曝光機(jī) OAI在半導(dǎo)體行業(yè)中擁有超過40年的制造經(jīng)驗(yàn)，通過新的精英級光刻設(shè)備滿足了日益增長的動態(tài)市場挑戰(zhàn)。

紅外后對準(zhǔn)雙面刻機(jī) 提供一系列的解決方案來滿足客戶的生產(chǎn)和開發(fā)要求。通過一系列的技術(shù)的開發(fā)，SPTS能為客戶提供一系列的*的工藝，比如功率MOSFET和200m...

紅外后對準(zhǔn)雙面刻蝕機(jī) 提供一系列的解決方案來滿足客戶的生產(chǎn)和開發(fā)要求。通過一系列的技術(shù)的開發(fā)，SPTS能為客戶提供一系列的*的工藝，比如功率MOSFET和200...

多功能磁增強(qiáng)反應(yīng)離子刻蝕機(jī) 提供一系列的解決方案來滿足客戶的生產(chǎn)和開發(fā)要求。通過一系列的技術(shù)的開發(fā)，SPTS能為客戶提供一系列的*的工藝，比如功率MOSFET和...

無掩模光刻機(jī) 美國AMP（Advanced Micro Patterning, LLC）公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無掩模曝光技術(shù)，已成為無掩模紫外光刻...

勻膠顯影機(jī) 適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面顯影。一般顯影機(jī)由動力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 （水）輥、涂膠槽等部...

手動/半自動曝光機(jī) 光刻機(jī)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機(jī)，紫外曝光機(jī)等；

等離子刻蝕機(jī) 提供一系列的解決方案來滿足客戶的生產(chǎn)和開發(fā)要求。通過一系列的技術(shù)的開發(fā)，SPTS能為客戶提供一系列的*的工藝，比如功率MOSFET和200mm和3...

IPG激光劃片機(jī) 能適應(yīng)單晶硅、多晶硅、非晶硅電池劃片和硅、鍺、砷化鎵半導(dǎo)體材料的劃片和切割。比如厚片（如AP公司0.7mm單晶硅多晶硅；1.2mm非晶硅帶等）...

CMP研磨拋光系統(tǒng) ，該機(jī)型是PM5型的升級版。能夠完成4英寸及以下尺寸樣品的小批量處理，整個(gè)過程全封閉控制，并內(nèi)置自清洗功能，提升對操作人員的安全保護(hù)；全部采...

ALD原子層沉積系統(tǒng) 存儲電容器絕緣層-銅連線間的高縱橫比擴(kuò)散勢壘區(qū)有機(jī)發(fā)光二極管和聚合物的無針孔鈍化層鈍化晶體硅太陽能電池

ADT機(jī)械劃片機(jī) 具有四種不同的機(jī)型可以選擇，每個(gè)機(jī)型分別對具體的應(yīng)用范圍進(jìn)行了優(yōu)化，7100系列涵蓋了廣闊的應(yīng)用范圍，可以提供低廉的成本合理并同時(shí)提供*的切割...

ADT機(jī)械劃片機(jī)-半導(dǎo)體前道儀器設(shè)備廠家7100系列的2“和4"軸切割系統(tǒng)在工業(yè)界提供了*水平的裝備能力和適應(yīng)性，具有四種不同的機(jī)型可以選擇，每個(gè)機(jī)型分別對具體...