聯(lián)系 龔經(jīng)理 I8721868497 VX同號

美國kimball physics EGH-6210電子槍系統(tǒng)

帶有匹配的 EGPS-4190 電源和 COPS-4190 柱光學(xué)裝置的 EMG-4193 電子槍是一個(gè)完整的子系統(tǒng)，可隨時(shí)連接到用戶的真空系統(tǒng)

EMG-4193 / EGPS-4190 / COPS-4190

帶有匹配的 EGPS-4190 電源和 COPS-4190 柱光學(xué)裝置的 EMG-4193 電子槍是一個(gè)完整的子系統(tǒng)，可隨時(shí)連接到用戶的真空系統(tǒng)。可選的光發(fā)射可以通過系統(tǒng)的視口聚焦用戶提供的電磁輻射源來實(shí)現(xiàn)。EMG-4193 可以提供能量從 1 keV 到 30 keV 和電流從 1 nA 到 10 µA 的電子。該槍使用 (LaB 6 ) 陰極提供小至 25 µm 的小光斑，使用壽命長達(dá)數(shù)千小時(shí)。還可以對光束進(jìn)行光柵化以對目標(biāo)成像。應(yīng)用包括表面物理和真空物理實(shí)驗(yàn)。

能量范圍： 1 keV 至 30 keV
光束電流： 1 nA 至 10 µA
光斑尺寸： 25 µm 至 500 µm
安裝：4?CF
特性/選項(xiàng)：光發(fā)射、操作時(shí)內(nèi)部對準(zhǔn)、靜電聚焦、四極對準(zhǔn)、八極偏轉(zhuǎn)/光柵/象散器、光束消隱、差分泵浦

美國kimball physics EGH-6210電子槍系統(tǒng)

Kimball Physics 電子槍，其設(shè)計(jì)用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應(yīng)用。噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產(chǎn)、焊接和 RHEED 等應(yīng)用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。