美國 LK-Technologies 離子源 真空 NGI3000

美國 LK-Technologies 離子源 真空 NGI3000

LK-Technologies強大，流行的離子源設計用于通過離子濺射清潔表面，光束能量高達3 keV，典型離子電流高達30μA。該噴槍采用了一種新穎的氣體噴射系統(tǒng)，該系統(tǒng)允許在典型的1×10 -6托的腔室壓力下進行濺射。

• 氣體注入系統(tǒng)避免了昂貴的差動泵送設備

• 低室壓下的惰性氣體濺射

• 寬離子束確保均勻濺射

• 與普通濺射清潔和ISS應用兼容

• 連續(xù)可調(diào)諧的電壓從200 V到3 kV

• 帶USB或以太網(wǎng)接口的數(shù)字控制電子設備

AES EA5000MCA EELS ELS ELS5000 High Resolution Electron Energy Loss Spectroscopy HREELS LEED LEED系統(tǒng) LK1000M LK2000 lktech LK technologies LK Technology MINICMA NGI3000 RVL2000光譜儀 低能電子衍射 低能電子衍射儀 低能電子衍射系統(tǒng) 俄歇電子 俄歇電子能譜AES 俄歇電子能譜儀 多探針分析系統(tǒng) 熱解吸光譜 特高壓系統(tǒng) 特高壓表面科學系統(tǒng) 電子發(fā)生器 電子槍 電子源 電子碰撞實驗 電子能譜儀 電子能量損失譜 電子能量損失譜儀 離子泵 離子源 精密UHV室 精密樣品操縱 能量損失譜儀 表面結構與表面分析 超高真孔表面分析系統(tǒng) 超高真空表面分析系統(tǒng) 輔助泵 高分辨電子能量損失譜 高分辨電子能量損失譜儀