目錄:深圳摩方新材科技有限公司>>精密加工>>光刻技術(shù)>> nanoArch S130光刻技術(shù)
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,食品,生物產(chǎn)業(yè),電子,制藥 | 光學(xué)精度 | 2μm |
|---|---|---|---|
| 打印材料 | 光敏樹脂 | 打印層厚 | 5-20μm |
| 最大打印尺寸 | 50mm(L)×50mm(W)×10mm(H) | 光源 | UV?LED(405nm) |
一、3D光刻技術(shù)介紹
摩方PµSL是一種微米級精度的3D光刻技術(shù)，這一技術(shù)利用液態(tài)樹脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快 速涂層技術(shù)大大降低每層打印的時(shí)間，并通過打印平臺三維移動逐層累積成型制作出復(fù)雜三維器件。
在三維復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納加工領(lǐng)域，BMF Material團(tuán)隊(duì)擁有超過二十年的科研經(jīng)驗(yàn)，針對客戶在項(xiàng)目研究中可能出現(xiàn)的工藝和材料難題，我們將持續(xù)提供簡易高效的技術(shù)支持方案。
二、3D光刻技術(shù)功能介紹
*的薄膜滾刀涂層技術(shù)允許更高的打印速度，使打印速度最高提升10倍以上；
能夠處理高達(dá)20000cps的高粘度樹脂，從而生產(chǎn)出耐候性更強(qiáng)、功能更強(qiáng)大的零部件；
能夠打印工業(yè)級復(fù)合聚合物和陶瓷光敏材料，包括與巴斯夫合作開發(fā)的全新功能工程材料。
三、微納3D打印系統(tǒng)打印材料
通用型
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
工業(yè)級復(fù)合聚合物，例如高粘度樹脂、陶瓷漿料等。
個(gè)性化
高強(qiáng)度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫(yī)用樹脂等。
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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