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我司銷售的旋轉(zhuǎn)涂層裝置（HO-TH-05）
閱讀：94 發(fā)布時間：2024-12-16Holmarc 的旋涂機（型號：HO-TH-05）是一種專用的臺式系統(tǒng)，用于在研究實驗室中對小型基底進行旋涂，旋涂過程參數(shù)控制良好。高速和持續(xù)時間范圍允許用戶獲得所需的薄膜厚度或薄度。旋涂頭執(zhí)行器采用精密的直流伺服電機，維護量少，速度和加速度控制精確。由無油真空泵驅(qū)動的真空吸盤將基底固定在旋轉(zhuǎn)頭上。
該設(shè)備的用戶友好型前面板配有鍵盤和液晶顯示屏，可對旋轉(zhuǎn)過程進行編程。旋轉(zhuǎn)持續(xù)時間、旋轉(zhuǎn)速度、加速度等參數(shù)均可通過前面板進行編程。由于程序存儲器是非易失性的，因此在斷電的情況下記錄的參數(shù)也不會丟失。該機型配備了 9 個可編輯的預(yù)設(shè)程序存儲器，每個程序有 9 個步驟。
功能
卡盤直徑：14 毫米、22 毫米、36 毫米（O 形圈外徑）
工作腔上的透明安全蓋
非易失性程序存儲器
用戶友好型設(shè)計
背板電源開關(guān)
用于惰性氣體吹掃的入口和出口，6 毫米管道
規(guī)格
用戶界面：24 x 4 行字母數(shù)字 LCD 和 16 按鈕鍵盤
執(zhí)行器：無刷直流伺服電機
程序存儲器：9 個程序，每個程序有 9 個步驟
速度曲線：速度、持續(xù)時間和加速度
旋轉(zhuǎn)速度：60 - 9999 RPM
速度分辨率：1 RPM
速度精度：+/- 1
加速/減速：10 - 2000 rpm/s（可通過輸入加速度間接設(shè)置斜坡和停留時間）
持續(xù)時間：每步 1 - 99 秒/分/小時
樣品卡盤：3 個（25 毫米、32 毫米和 45 毫米）
最大樣品直徑：100 毫米
最小樣品直徑：13 毫米
樣品碗材料：聚丙烯
碗尺寸：8 英寸
帶樣品分配口的透明蓋
排水軟管
安全聯(lián)鎖裝置，防止碗打開時旋轉(zhuǎn)
樣品架 ： 帶硅橡膠 O 型環(huán)的 PTFE 盤
樣品安裝：真空固定
真空連接器：8 毫米直徑卡入式軟管連接器
N2 吹掃接頭
真空泵開/關(guān)和釋放開關(guān)
尺寸（毫米） ： 400（長）x 275（寬）x 350（高）
交流電輸入：230 伏
最大功耗：260 瓦（帶真空泵）
應(yīng)用范圍
旋涂技術(shù)在有機電子、納米技術(shù)、半導(dǎo)體工業(yè)和其他工業(yè)領(lǐng)域無處不在。
旋轉(zhuǎn)涂層廣泛應(yīng)用于使用溶膠-凝膠前驅(qū)體在玻璃或單晶基底上微細制造功能氧化物層，可用于制造納米級厚度的均勻薄膜。在光刻技術(shù)中，它被廣泛用于沉積厚度約為 1 微米的光刻膠層。
可選配件
數(shù)字移液器，用于向基底分配液體
支架用于固定手動移液器
真空適配器，用于固定直徑從 30 毫米到 100 毫米不等的培養(yǎng)皿
機械夾或鎖，用于在不抽真空的情況下固定樣品
旋轉(zhuǎn)鍍膜是在平面基底上沉積均勻薄膜的技術(shù)之一。它廣泛應(yīng)用于各種行業(yè)和技術(shù)領(lǐng)域。旋涂技術(shù)的優(yōu)勢在于能夠快速、輕松地生產(chǎn)出厚度從幾納米到幾微米不等的非常均勻的薄膜。
在這項技術(shù)中，在低速旋轉(zhuǎn)或不旋轉(zhuǎn)的基底中心涂上少量涂層材料。然后基底高速旋轉(zhuǎn)，通過離心力使涂層材料擴散。在流體從基底邊緣脫落的同時繼續(xù)旋轉(zhuǎn)，直到達到所需的涂膜厚度。涂抹的溶劑通常具有揮發(fā)性，會同時蒸發(fā)。因此，旋轉(zhuǎn)的角速度越高，薄膜就越薄。薄膜的厚度還取決于溶液和溶劑的粘度和濃度。