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我司銷售的紫外激光寫入系統(tǒng) 用于光刻技術(shù)(HO-LWS-PUV-T)()
閱讀:78 發(fā)布時間:2024-12-18Holmarc 的紫外激光刻寫系統(tǒng)是一種直接刻寫光刻系統(tǒng),用于在涂有光刻膠層的基片上刻寫微幾何特征。這套無掩膜系統(tǒng)配備了強度可調(diào)的光纖耦合 405nm 激光器和伺服電機驅(qū)動的高精度 XY 平臺,并配有數(shù)控軟件,可書寫復(fù)雜的圖案。四倍電動轉(zhuǎn)塔配有不同的物鏡,可在聚焦點形成不同的光斑尺寸。配備了一個帶黃色 LED 照明的 300 萬像素攝像頭,用于聚焦樣品,以獲得最佳特征尺寸。用戶友好型軟件用于樣品基底的初始設(shè)置,數(shù)控軟件用于根據(jù) dxf 繪圖文件繪制圖案。
規(guī)格
激光器:405 納米光纖耦合激光器
聚焦模式 : 基于顯微鏡物鏡
光斑直徑:<10 微米(取決于物鏡放大倍率)
強度:樣品位置處為 3mW
聚焦:電動,軟件控制
電動 XY-Theta 樣品平臺
XY 行程:100 毫米 x 100 毫米
XY 分辨率:1 微米
單向重復(fù)性:3 微米
定位精度:5 微米
Theta 平臺分辨率:0.1 度
重復(fù)性:0.1 度
定位精度:0.1 度
真空樣品夾頭
鼻模 : 四軸,電動,軟件控制
軟件 : Mach3 CNC 軟件
顯微鏡目標
1. Infinity Plan 消色差 60X 物鏡
N A : 0.75
工作距離: 1.22 毫米
2. Infinity Plan 100 倍消色差物鏡
N A : 0.85
工作距離:0.4 毫米