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Holmarc 的離子交換器是一種專用設(shè)備，用于將基片浸入熱室中的熔體中形成薄膜。加熱器的溫度可以控制和固定，最高可達環(huán)境溫度 400°C。速度、持續(xù)時間等由計算機控制精確保持。移動由精密伺服/步進電機控制的線性平臺實現(xiàn)。

系統(tǒng)的前面板帶有鍵盤和 LCD 顯示屏，使用方便。也可通過電腦進行控制。浸漬持續(xù)時間、浸漬速度、退出速度等都是可編程功能。

伺服電機（可選）用作執(zhí)行器，可實現(xiàn)無振動浸漬和退出。該設(shè)備采用臺式設(shè)計和制造，整個電子設(shè)備和伺服電機都安裝在一個緊湊的裝置中。在實驗過程中，基片支架的高度可根據(jù)溶液水平進行調(diào)整。

                                                                                             規(guī)格

 執(zhí)行器：步進電機（可選伺服電機）

    驅(qū)動機構(gòu)：精密滾珠絲杠

    速度控制：可選

    電源輸入：230 伏，50 赫茲

    電腦連接：串行端口（RS 232）

    最大行程：150 毫米

    最小牽引速度： 2 微米/秒

    最大拉伸速度：9000 微米/秒