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薄膜/涂層殘余應(yīng)力儀

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更新時間:2024/07/04 15:44:34瀏覽次數(shù):2142

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產(chǎn)品簡介

應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè),能源
薄膜/涂層殘余應(yīng)力儀(kSA MOS Coating Stress tester)采用非接觸MOS激光技術(shù);不但可以對樣品表面應(yīng)力分布進(jìn)行統(tǒng)計分析,而且還可以進(jìn)行樣品表面二維應(yīng)力、曲率成像分析;并且這種設(shè)計始終保證所有陣列的激光光點始終在同一頻率運動或掃描,從而有效的避免了外界振動對測試結(jié)果的影響;同時提高了測試的分辨率;適合各種材質(zhì)和厚度薄膜應(yīng)力分析;

詳細(xì)介紹

薄膜/涂層殘余應(yīng)力儀同樣采用多光束MOS技術(shù),可裝在各種真空沉積設(shè)備上(如:MBE, MOCVD, sputtering, PLD, PECVD, and annealing chambers ects),對于薄膜生長過程中的應(yīng)力變化進(jìn)行實時原位測量和二維成像分析;


 *薄膜熱應(yīng)力測量系統(tǒng)(kSA MOS Thermal-Scan Film Stress Tester)


薄膜/涂層殘余應(yīng)力儀

技術(shù)參數(shù):
kSA MOS Film Stress Tester, kSA MOS Film Stress Measurement System,kSA MOS Film Stress Mapping System;
1.XY雙向程序控制掃描平臺掃描范圍:300mm (XY)(可選);
2.XY雙向掃描速度:up to 
20mm/s;

3.XY雙向掃描平臺掃描小步進(jìn)/分辨率:2 μm ;
4.樣品holder兼容:50mm, 75mm, 100mm, 150mm, 200mm, and 300mm直徑樣品;
5.程序化控制掃描模式:選定區(qū)域、多點線性掃描、全樣品掃描;
6.成像功能:樣品表面2D曲率、應(yīng)力成像,及3D成像分析;
7.測量功能:曲率、曲率半徑、應(yīng)力強度、應(yīng)力、Bow和翹曲等;


主要特點:
1.程序化控制掃描模式:單點掃描、選定區(qū)域、多點線性掃描、全樣品掃描;
2.成像功能:樣品表面2D曲率成像,定量薄膜應(yīng)力2D成像分析;
3.測量功能:薄膜應(yīng)力、翹曲、曲率半徑等;
4.支持變溫?zé)釕?yīng)力測量功能,溫度范圍-65C to 1000C;
5.薄膜殘余應(yīng)力測量;


涂層應(yīng)力測量系統(tǒng)(kSA MOS Coating Stress tester)采用非接觸MOS激光技術(shù);不但可以對樣品表面應(yīng)力分布進(jìn)行統(tǒng)計分析,而且還可以進(jìn)行樣品表面二維應(yīng)力、曲率成像分析;并且這種設(shè)計始終保證所有陣列的激光光點始終在同一頻率運動或掃描,從而有效的避免了外界振動對測試結(jié)果的影響;同時提高了測試的分辨率;適合各種材質(zhì)和厚度薄膜應(yīng)力分析;


典型用戶:Harvard University 2套,Stanford University,Johns Hopkins University,Brown University 2套,Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute,西安交通大學(xué),中國計量科學(xué)研究院等、半導(dǎo)體和微電子制造商(如IBM.,Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC,Nissan ARC,Nichia Glass Corporation)等;


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