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產(chǎn)品信息

 特　點(diǎn)

●膜厚測量范圍1nm～92μm（換算為SiO2）

●膜厚值高重復(fù)精度

●1點(diǎn)1秒以內(nèi)的高速測量

●最小小點(diǎn)Φ3μm）中瞄準(zhǔn)模式

●最zui適shi合圖案晶片的膜厚映射

●能夠取得圖案對準(zhǔn)用圖像

裝置組裝示意圖

測量數(shù)據(jù)示意圖

測量光點(diǎn)周邊圖像

適應(yīng)過程示例

CMP工藝

蝕刻工藝

成膜工藝等

式樣

上海波銘科學(xué)儀器有限公司主要提供光譜光電集成系統(tǒng)、晶萃光學(xué)機(jī)械和光學(xué)平臺、激光器、Edmund 光學(xué)元件、Newport 產(chǎn)品、濱松光電探測器、卓立漢光熒光拉曼光譜儀、是德 Keysight 電學(xué)測試系統(tǒng)、大塚 Otsuka 膜厚儀、鑫圖科研級相機(jī)、Semilab 半導(dǎo)體測試設(shè)備及高低溫探針臺系統(tǒng)。經(jīng)過多年的發(fā)展，上海波銘科學(xué)儀器有限公司在市場上已取得了一定的地位。我們的產(chǎn)品和服務(wù)在行業(yè)內(nèi)具有較高的知zhi名度和美譽(yù)度，客戶遍布全國。我們將繼續(xù)努力，不斷提升市場地位和影響力。