科研鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材?；c靶材同在真空腔中。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，最終形成薄膜。
科研鍍膜機產(chǎn)品參數(shù)：
1.運行速度: 0.1-600 mm/min
2.行程: 100 mm,位移精度:±0.1 mm
3.額定線性推力: >50 N
4.浸漬時間:0-9999.9 s
5.重復鍍膜間隔時間0-9999.9 s
6.重復鍍膜步驟：1-999次,重復鍍膜間隔時間:0-9999.9s
7.晶片選擇尺寸：大長100mm
8.4.3寸全彩觸屏，簡單易用，標配觸屏筆操作
9.結構緊湊，易于放置在手套箱內(nèi)使用
10.自帶幫助功能，對初次使用者提供使用向導功能
11.提供手動上下高度調(diào)節(jié)，方便位置設置
12.可命名存貯100組鍍膜程序，方便隨時調(diào)用
13.產(chǎn)品外形尺寸：227(W)*350(D)*416(H)
在DP100-BE基礎上增加底部加熱功能：
1.控溫范圍：室溫到120℃(更高溫度可定制)
2.高精密數(shù)顯溫控表控制，控溫精度：±0.5℃
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