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德國ADL直流電源GS 05/1000 0.5 – 3 kW
| 供貨周期 | 一個月以上 | 應用領域 | 生物產業(yè),能源,電子/電池,電氣,綜合 |
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德國ADL離子源電源GG 12 Beam用于微電子
公司簡介：
ADL Analoge & Digitale Leistungselektronik GmbH是一家開發(fā)和制造商，生產電源和發(fā)電機，以及用于特殊工業(yè)應用和研究機構的電力電子設備。
ADL 濺射技術在產品和鍍膜設計方面擁有 30 多年的經驗和專業(yè)知識。這種專業(yè)知識使 ADL 成為各種薄膜涂層合作伙伴 - 用于顯示器、箔、玻璃、硬涂層、工具、裝飾表面、微電子等等。
產品介紹：
離子源電源GG 12 Beam
產品特點：
在離子束和等離子體工藝技術中的廣泛應用
蝕刻、濺射等等
創(chuàng)新應用，例如微電子、光學和傳感器
工業(yè)生產領域
鍍膜工藝：在光學鍍膜、硬質涂層等工業(yè)鍍膜過程中，ADL GG 12 Beam 為離子源提供穩(wěn)定的電力，使離子能夠均勻地轟擊靶材，實現(xiàn)高質量的薄膜沉積。這種高質量的鍍膜可以提高產品的耐磨性、耐腐蝕性、光學性能等，廣泛應用于眼鏡鏡片、刀具、汽車零部件等產品的表面處理。
半導體制造：在半導體芯片制造過程中，用于離子蝕刻、離子注入等關鍵工藝。通過精確控制離子源的參數(shù)，實現(xiàn)對芯片結構的高精度加工和摻雜，確保芯片的性能和可靠性。例如，在芯片的光刻工藝之后，利用離子蝕刻技術可以精確地去除不需要的半導體材料，形成復雜的電路結構；而離子注入則可以精確地控制半導體中的雜質濃度，從而調節(jié)晶體管的性能。
型號列表：
GG 03 Accelerator 09Z001
GG 03.1 Accelerator 09Z002
GG 08 Accelerator 09Z005
GG 12 Beam 09Z011
GG 12.1 Beam 09Z012
德國ADL離子源電源GG 12 Beam用于微電子
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