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CVD二維薄膜、二硫化錸薄膜(ReS2)

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更新時間：2024-01-30 17:04:34瀏覽次數(shù)：258次

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CVD二維薄膜、二硫化錸薄膜(ReS2)
二硫化錸是一種過渡金屬硫族化合物，屬于二維材料家族。它具有特殊的電學(xué)和光學(xué)性質(zhì)，例如在單層形式下表現(xiàn)出的直接能隙。

CVD二維薄膜、二硫化錸薄膜(ReS2)

【基本信息】

中文名稱：二硫化錸薄膜

英文名稱：ReS2

純度：99.9%

存儲：-20℃冷藏、密封、避光

保存時間：1年

用途：僅用于科研，不能用于人體


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CVD二維薄膜、二硫化錸薄膜(ReS2)

【詳情描述】

二硫化錸（ReS2）：

性質(zhì)：二硫化錸是一種過渡金屬硫族化合物，屬于二維材料家族。它具有特殊的電學(xué)和光學(xué)性質(zhì)，例如在單層形式下表現(xiàn)出的直接能隙。

應(yīng)用： ReS2在電子學(xué)、光電子學(xué)和光伏領(lǐng)域等方面具有潛在應(yīng)用，其性質(zhì)使其成為研究的熱點(diǎn)。

CVD二維薄膜：

CVD（化學(xué)氣相沉積）： CVD是一種通過氣相前體在基底表面沉積薄膜的技術(shù)。在納米科技中，CVD廣泛用于制備二維材料的薄膜。

應(yīng)用： CVD生長的二維薄膜通常具有可控的厚度和晶體質(zhì)量，適用于納米電子學(xué)、光電子學(xué)、傳感器等應(yīng)用領(lǐng)域。

【推薦產(chǎn)品】

TEM銅網(wǎng)基底MoS2連續(xù)薄膜  

GaAs砷化鎵基底MoS2連續(xù)薄膜  

銅膜基底MoS2連續(xù)薄膜  

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以上資料來自西安昊然生物小編JMY 2024.1.30.         

以上文中提到的產(chǎn)品僅用于科研，不能用于人體及其他用途。


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