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CVD二維薄膜、二硫化錫薄膜(SnS2)

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更新時間:2024-01-30 17:13:22瀏覽次數(shù):272次

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供貨周期 一周 應(yīng)用領(lǐng)域 化工
CVD二維薄膜、二硫化錫薄膜(SnS2)
二硫化錫是一種硫族元素和錫元素組成的化合物,屬于二維材料。它具有半導(dǎo)體性質(zhì),適用于一些電子學(xué)和光電子學(xué)應(yīng)用。

CVD二維薄膜、二硫化錫薄膜(SnS2)

【基本信息】

中文名稱:二硫化錫薄膜

英文名稱:SnS2

純度:99.9%

存儲:-20℃冷藏、密封、避光

保存時間:1年

用途:僅用于科研,不能用于人體

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CVD二維薄膜、二硫化錫薄膜(SnS2)

【詳情描述】

二硫化錫(SnS2):

性質(zhì):二硫化錫是一種硫族元素和錫元素組成的化合物,屬于二維材料。它具有半導(dǎo)體性質(zhì),適用于一些電子學(xué)和光電子學(xué)應(yīng)用。

應(yīng)用:SnS2在薄膜電池、光電探測器和催化等領(lǐng)域顯示出潛在應(yīng)用。

CVD二維薄膜:

CVD(化學(xué)氣相沉積):CVD是一種通過氣相前體在基底表面沉積薄膜的技術(shù)。在納米科技中,CVD被廣泛用于制備二維材料的薄膜。

應(yīng)用:CVD生長的二維薄膜通常具有可控的厚度和晶體質(zhì)量,適用于納米電子學(xué)、光電子學(xué)、傳感器等應(yīng)用領(lǐng)域。

【推薦產(chǎn)品】

CVD 二硒化鎢(單/多層)連續(xù)薄膜 PDMS基底

CVD 二硒化鎢WSe2連續(xù)薄膜 FTO基底

CVD 二硒化鎢(WSe2)薄膜 SOI基底

CVD 二硒化鎢(WSe2)連續(xù)薄膜 高阻本征硅基底

CVD 二硒化鎢WSe2連續(xù)薄膜 硅片基底

以上資料來自西安昊然生物小編JMY 2024.1.30.         

以上文中提到的產(chǎn)品僅用于科研,不能用于人體及其他用途。


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