目錄:筱曉（上海）光子技術有限公司>>其他連續(xù)激光器>>X射線激光器>> EUV-B-XRAY20nm 臺式X射線源 脈寬 7 ns
| 產地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 化工,建材/家具,電子/電池 | 組成要素 | 自由電子激光器 |
激光源產生的紫外/軟X射線輻射是Tingen在激光實驗室開發(fā)的，由高脈沖能量YAG激光器（1064nm，800mJ，7ns）聚焦于氣體電離產生。不同的目標氣體對應不同的能譜分布。
● 低殘留
● 高EUV能量（3.5 MJ）
● 低耗氣量（氣體脈沖持續(xù)時間：<1 ms）
● 簡單目標氣體交換
● 桌面系統(tǒng)
● 計量：反射測量、吸收
● 光譜學（nexafs）
● 光學/傳感器測試
● EUV損壞調查
● 材料相互作用基礎研究
● 水窗顯微鏡（λ=2..4納米）
參數(shù) | 單位 | 指標 |
產品編號 | EUV-B-XRAY | |
工作波長 | nm | 20nm |
脈寬 | ns | 7 |
脈沖能量（Xe） | mJ | 3.5(4π sr, 2% BW) |
轉換效率 | % | 0.45 |
等離子形狀 | NA | ? ~ 300 µm |
重復頻率 | HZ | 10 |
測試數(shù)據(jù)展示：
5
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