電子大腦皮質(zhì)挫傷撞擊儀（eCCI）設(shè)備提供了顯著的增強(qiáng)效果，該設(shè)備正迅速成為全球神經(jīng)創(chuàng)傷研究界的*。 CCI 采用堅(jiān)固的鋁制框架構(gòu)造，以最大限度地提高剛度，從而確保沖擊精度。 支撐底座、動(dòng)物平臺(tái)和沖擊頭均經(jīng)過(guò)陽(yáng)極氧化處理，以防止氧化并確保設(shè)備使用壽命。 該組件包括底座和支撐框架、帶有鋁制動(dòng)物平臺(tái)的可調(diào)節(jié)動(dòng)物定位器，可與各種立體定向支架結(jié)合使用。 該型號(hào)采用增強(qiáng)型線性馬達(dá)驅(qū)動(dòng)沖擊器和控制器。 增強(qiáng)型沖擊頭還裝有一個(gè)光電傳感器，用于確定速度、沖擊深度和停留時(shí)間，并且重現(xiàn)性好。

與傳統(tǒng)Feeney's自由落體硬膜外撞擊方法相比有以下優(yōu)點(diǎn)：

電子大腦皮質(zhì)挫傷撞擊儀可較精確連續(xù)的控制撞擊速度，并獲得實(shí)際撞擊深度和停留時(shí)間等參數(shù)。而非重量差異很大的撞擊。由于可較精確控制撞擊速度和獲得實(shí)際撞擊結(jié)果參數(shù)，eCCI電子大腦皮質(zhì)挫傷撞擊儀可以較精確重復(fù)制作挫傷損傷模型。減少動(dòng)物死亡。使實(shí)驗(yàn)過(guò)程更加直觀，可控。

創(chuàng)傷性腦損傷是神經(jīng)外科常見(jiàn)的疾病，是導(dǎo)致創(chuàng)傷患者傷殘及死亡的主要原因。研究腦損傷后的神經(jīng)生化、shenjing病理生理等方面的變化，可為探索行之有效的腦保護(hù)治療提供幫助，將有助于提高顱腦損傷患者的生存率及生存質(zhì)量。故建立各種便于觀察和施加干預(yù)因素、控制性佳、可分級(jí)、可復(fù)制性好并符合人類腦創(chuàng)傷特點(diǎn)的創(chuàng)傷性腦損傷模型，是目前創(chuàng)傷性腦損傷的研究熱點(diǎn)。 
VCU動(dòng)物顱腦損傷儀可以分為:

液壓顱腦損傷儀(FPI),

電子顱腦損傷儀(eCCI)

細(xì)胞顱腦損傷儀(CIC)

這三種產(chǎn)品己廣泛應(yīng)用于范圍內(nèi)的顱腦創(chuàng)傷研究中心，是目前的顱腦創(chuàng)傷模型制作的。同時(shí),損傷儀還可應(yīng)用到眼科損傷模型，細(xì)胞損傷儀可以應(yīng)用到其它種類細(xì)胞損傷模型的制作。