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當前位置：無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司>>產(chǎn)品展示>>制冷加熱控溫系統(tǒng)>>SUNDI-40℃~200℃一拖二系統(tǒng)

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制冷加熱控溫系統(tǒng): 高低溫一體機制冷加熱循環(huán)機高低溫循環(huán)泵全封閉小型高低溫循環(huán)裝置制冷加熱循環(huán)裝置制冷加熱一體機 SUNDI-320/420W/430W SUNDI-10℃~200℃ SUNDI-25℃~200℃ SUNDI-45℃~250℃ SUNDI-50℃~250℃ SUNDI-60℃~250℃ SUNDI-70℃~250℃ SUNDI-80℃~250℃ SUNDI-90℃~250℃ SUNDI-100℃~100℃ SUNDI-25℃~200℃一拖二系統(tǒng) SUNDI-40℃~200℃一拖二系統(tǒng) AH系列制冷加熱－適合高放熱量防爆電氣柜

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全部熱門

密閉制冷加熱設備-40℃～200℃拖二配套原理
應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。密閉制冷加熱設備-40℃～200℃拖二配套原理

型號： SUNDI-475... 所在地：無錫市參考價：面議更新時間：2024/12/27 12:32:22 對比

制冷加熱控溫系統(tǒng)加熱冷卻循環(huán)裝置加熱冷卻循環(huán)器制冷加熱循環(huán)裝置制冷加熱一體機
制冷加熱設備-40℃～200℃拖二配套原理
應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱設備-40℃～200℃拖二配套原理

型號： SUNDI-455... 所在地：無錫市參考價：面議更新時間：2024/12/27 12:21:07 對比

制冷加熱控溫系統(tǒng)加熱冷卻循環(huán)裝置加熱冷卻循環(huán)器制冷加熱循環(huán)裝置制冷加熱一體機
高低溫體機-40℃～200℃拖二配套原理
應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫體機-40℃～200℃拖二配套原理

型號： SUNDI-425... 所在地：無錫市參考價：面議更新時間：2024/12/27 10:40:33 對比

制冷加熱控溫系統(tǒng)加熱冷卻循環(huán)裝置加熱冷卻循環(huán)器制冷加熱循環(huán)裝置制冷加熱一體機
高低溫冷卻循環(huán)器-40℃～200℃拖二
應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫冷卻循環(huán)器-40℃～200℃拖二

型號： SUNDI-435... 所在地：無錫市參考價：面議更新時間：2024/12/26 20:17:34 對比

制冷加熱控溫系統(tǒng)加熱冷卻循環(huán)器制冷加熱一體機加熱冷卻循環(huán)機高低溫循環(huán)泵
制冷加熱循環(huán)裝置-40℃～200℃（拖二系統(tǒng)）
應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱循環(huán)裝置-40℃～200℃（拖二系統(tǒng)）

型號： SUNDI-475... 所在地：無錫市參考價：面議更新時間：2024/12/26 15:14:13 對比

高低溫一體機制冷加熱系統(tǒng)恒溫系統(tǒng)加熱制冷循環(huán)裝置加熱制冷循環(huán)器
反應釜控溫系統(tǒng)-40℃ ～ 200℃（拖二系統(tǒng)）
應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。反應釜控溫系統(tǒng)-40℃ ～ 200℃（拖二系統(tǒng)）

型號： SUNDI-4A1... 所在地：無錫市參考價：面議更新時間：2024/12/26 15:03:59 對比

制冷器制冷加熱系統(tǒng)加熱制冷循環(huán)器加熱制冷系統(tǒng)控制系統(tǒng)

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