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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,能源 |
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高吞吐量晶圓廠檢測和分析
溝設(shè)槽備寬前度端、模深塊度（E和F角EM度）測用量于的自自動(dòng)動(dòng)晶數(shù)圓據(jù)傳采送集和分析
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
Park NX-Wafer為在線晶圓廠計(jì)量提供高生產(chǎn)率和強(qiáng)大特性
高吞吐量晶圓廠檢測和分析
Park NX-Wafer溝設(shè)槽備寬前度端、模深塊度（E和F角EM度）測用量于的自自動(dòng)動(dòng)晶數(shù)圓據(jù)傳采送集和分析。
精確的亞埃級(jí)表面粗糙度控制
真界實(shí)最非低接噪觸音模低式至使0得.5參A數(shù)rm相S關(guān)·遍結(jié)布果整具個(gè)有晶免圓疫區(qū)性域 保比持其探他針AF針M有尖1的0銳倍度-20以倍達(dá)的到更表長面的粗探糙針度壽精命度。
全自動(dòng)化高吞吐量缺陷成像
直通特接過定連更接強(qiáng)到的缺視自陷覺動(dòng)映來放射進(jìn)大檢行AF測自M掃動(dòng)設(shè)描坐備而標(biāo)不轉(zhuǎn)需換要和進(jìn)缺陷行移映射動(dòng)校平臺(tái)正的校準(zhǔn)。