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加熱臺英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. JW-700DG型加熱臺，控溫范圍為室溫至700度

流動氣氛加熱臺英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. 600度流動氣氛高溫精密恒溫加熱臺，可充氮氣及其他惰性氣體控溫范圍為室溫至600度（可按需求訂制...

頂升加熱臺是一款高性能烤膠設備，加熱階段可視，程序化控制，可存儲6組程序配方，每組可設30個加熱段。

晶圓烤膠機英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. JW-350BP型加熱臺，控溫范圍為室溫至350度

真空加熱臺英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. JW-230ZK型加熱臺，可抽真空，充氮氣及其他惰性氣體控溫范圍為室溫至230度（可按需求訂制不同規(guī)...

熱板 英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. JW-230ZK型加熱臺，可抽真空，充氮氣及其他惰性氣體控溫范圍為室溫至230度（可按需求訂制不同規(guī)格、...

高溫精密恒溫加熱臺加熱面板 均勻性好，溫控精度高，不易變形，耐腐蝕，同時具有升溫迅速，程序段控溫，控溫精準等優(yōu)點。

高溫加熱臺適用于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等工藝的，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化?？稍诠さV企業(yè)、科研、教育等單位進行老化、溫度試驗及干燥...

小型加熱臺英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. JW-400DG型加熱臺，控溫范圍為室溫至400度

數(shù)控加熱臺英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. JW-700DG型加熱臺，控溫范圍為室溫至700度

精密加熱臺適用于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等工藝的，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。

烤膠機適用于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等工藝的，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。

恒溫頂升功能加熱臺 英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. 智能半導體烤膠機恒溫頂升功能加熱臺是一款高性能烤膠設備，加熱階段可視，程序化控制，可存儲6...

真空加熱臺頂升烤膠機恒溫加熱板：一種用于半導體封裝、LED制造等領域的精密設備，多用于光刻工藝中的前烘、中烘和后烘，如涂膠后的軟烘，暴光后烘，顯影后的堅膜，磨片...

高溫加熱臺英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. JW-230ZK型加熱臺，可抽真空，充氮氣及其他惰性氣體控溫范圍為室溫至230度（可按需求訂制不同規(guī)...

700度精密恒溫高溫加熱臺數(shù)控型烤膠機英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. JW-700DG型加熱臺，控溫范圍為室溫至700度

加熱臺 英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. 600度精密恒溫高溫加熱臺烤膠機（分體）:控溫范圍 室溫至600度

加熱臺 英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. JW-400DG型加熱臺（不帶蓋），控溫范圍為室溫至400度

加熱臺 英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. 400度精密恒溫高溫加熱臺烤膠機(升級版):控溫范圍為室溫至400度

流動氣氛加熱臺廠家英文hot plate又稱烤膠機、烘膠機、熱板. 600度流動氣氛高溫精密恒溫加熱臺，可充氮氣及其他惰性氣體控溫范圍為室溫至600度（可按需求...