目錄:北京鴻瑞正達科技有限公司>>低真空鍍膜機>> VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀
產品簡介： VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀靶頭尺寸為2英寸， 樣品臺與濺射頭之間的高度在 30-80mm 之間可以調節(jié)。安裝有一可手動操作的濺射擋板，可進行預濺射。濺射頭對樣品的濺射時間在1-120s 之間可調，若想獲得薄的薄膜，濺射時間可以設置短一點
；若想獲得厚的薄膜，濺射時間可以長一點。VTC-16-D 小型直流磁控等離子濺射儀設計主要是制作一些金屬薄膜，制膜面積可達到4英寸。設備外 形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備，可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設備使用。
| 產品名稱 | VTC-16-D 小型直流磁控等離子濺射儀 |
| 產品型號 | VTC-16-D |
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主要特點 | 1 、特別為 SEM 樣品鍍導電性薄膜設計。 2、體積小巧，操作簡單，容易上手。 3、擁有小型磁控靶頭，可以鍍金銀鉑等金屬。 |
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| 1、輸入電源： 220V AC 50/60Hz 2、功率： 200W 3、輸出電壓： 500 VDC |
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技術參數(shù) | 5、濺射時間： 0-120S 可調 6、濺射腔體 1）采用石英腔體，尺寸： 166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H 2）密封： 采用不銹鋼平法蘭的 O 形密封圈 7、濺射頭&樣品臺 l）濺射頭可安裝靶材直徑為 2 英寸， 厚度 0.1 - 2.5mm 2）濺射時間 1-120S 可調 3）儀器中安裝有直徑為 50mm 的不銹鋼樣品臺， 其與濺射頭之間距離 30-80mm 可調。 4）可選購加熱型樣品臺，其加熱溫度可達 500℃ 5）安裝有一可手動操作的濺射擋板，可進行預濺射 6）制膜的直徑可達:4 英寸（僅供參考，詳情請點擊）
8、真空系統(tǒng) l）安裝有 KF25 真空接口 2）數(shù)字真空壓力表（Pa） 3）此系統(tǒng)可通入氣體運行 4）< 1.0E-2 Torr （采用機械泵） 5）< 1.0E-5 Torr （采用渦旋分子泵） 9、進氣 l）設備上配 1/4 英寸進氣口，方便連接氣瓶 2）設備前面板上裝有一氣流調節(jié)旋鈕，方便調節(jié)氣流 10、靶材 l）靶材尺寸要求： Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度) 2）設備標配為銅靶 11、產品外型尺寸 L460 mm × W 330 mm × H 540 mm |
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