目錄:北京鴻瑞正達(dá)科技有限公司>>低真空鍍膜機>> 小型粉末PVD包覆系統(tǒng)（DC磁控濺射-振動樣品臺）VTC-16PW
產(chǎn)品詳細(xì)介紹： 小型粉末 PVD 包覆系統(tǒng) VTC-16PW 是一款小型粉末包覆系統(tǒng)，主要有 2 英寸磁控濺射頭 和振動樣品臺組成。粉末在振動樣品臺上振動翻滾，通過濺射在粉末表面進(jìn)行包覆形成核殼結(jié)構(gòu)。直流磁 控濺射適合粉體表面包覆金屬材料.射頻磁控濺射適合材料表面包覆非金屬材料或碳。
產(chǎn)品型號 | 小型粉末 PVD 包覆系統(tǒng) VTC-16PW |
產(chǎn)品特點 | 1、可對粉體材料進(jìn)行表面包覆：采用磁控濺射，濺射時粉體材料在振動樣品臺上翻滾， 達(dá)到粉體表面均勻包覆 |
2、設(shè)備小巧可在手套箱內(nèi)使用，可處理樣敏感性材料 | |
技術(shù)參數(shù) | 1、輸入電壓： 220 VAC 50/60Hz 2、電源輸出:1600 VDC 250 W 3、電流： 150 mA . 4、濺射頭： 2 英寸角度可調(diào)節(jié)濺射頭 5、振動樣品臺： 樣品臺振動頻率可調(diào)節(jié)： 6-33Hz 樣品臺直徑為 50mm 建議樣品量: < 500 mg 建議顆粒尺寸: 1 ~ 1000um 石英腔體尺寸： 165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H 6、真空度： ①1.0E-2 Torr （采用機械泵）， 可濺射 Au, Ag, Pt, Cu, Mo 等靶 ② 1.0E-5 Torr （采用分子泵） ， 可濺射 Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn 等易氧化金屬靶真空 度可達(dá)到< 4.0E-6 Torr（分子泵系統(tǒng)抽時間 12 小時，腔體進(jìn)行烘烤） 7、 CE 認(rèn)證 |
產(chǎn)品規(guī)格 |
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注意事項 | 警告： 1、濺射頭與高壓電源相連接，操作時必須佩帶防護(hù)手套 2、濺射前必須確保靶材，濺射頭，基片和樣品臺清潔，需要用砂紙和乙醇來清洗， Al 或是 Ni 靶每次使用時都必須清洗和處理 注意：粉末樣品必須干燥和分散 |
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