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當(dāng)前位置：湖南中村貿(mào)易有限公司>>產(chǎn)品展示>>儀器儀表>>ORC日本
常備庫(kù)存：ORC日本UV照射裝置HUV-100高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 &a...
常備庫(kù)存：ORC日本UV照射裝置OHD-110M-ST高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 &a...
常備庫(kù)存：ORC日本UV照射裝置HUV-300高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 ±...
大量現(xiàn)貨：ORC日本UV照射裝置QRU-2161-D高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 ±1.5% ...
大量現(xiàn)貨：ORC日本UV照射裝置QRU-2161-H高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 ±1.5% ...
大量現(xiàn)貨：日本ORCUV照射裝置VUM-3500高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 ±1.5...
大量現(xiàn)貨：日本ORCUV照射裝置VUS-3300高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 ±1.5% 以?xún)?nèi)...
大量現(xiàn)貨：日本ORCUV照射裝置HMW-615N-3高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 &am...
原裝新品：日本ORCUV照射裝置HMW-615N-4高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 &am...
原裝新品：日本ORCUV照射裝置VUM-3073F高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 &amp...
原裝新品：日本ORCUV照射裝置VUS-3100高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 ±1.5...
原裝新品：日本ORCUV照射裝置VUS-3100-R高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 ±1.5% ...
中村現(xiàn)貨：日本ORC光刻系統(tǒng)EDi系列EDi-8310兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造...
中村庫(kù)存：日本ORC光刻系統(tǒng)EDi系列EDi-8308兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造...
原裝新品：日本ORC光刻系統(tǒng)EDi系列EDi-5308兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造...
原裝新品：日本ORC臭氧發(fā)生器ARV-O3ME兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。寬...
中村到貨：日本ORC臭氧發(fā)生器ARV-O3MG兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。寬...
中村供應(yīng)：日本ORC 臭氧發(fā)生器ARV-O3XP兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。...
中村供應(yīng)：日本ORC臭氧發(fā)生模塊ARV-M1000A兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)...
現(xiàn)貨庫(kù)存：日本ORC臭氧發(fā)生模塊ARV-M500A兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景...
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