日本SEN日森：光學(xué)表面處理設(shè)備 SSP-48

日本SEN日森：光學(xué)表面處理設(shè)備 SSP-48

工作原理

光分解作用：可同時(shí)發(fā)射波長(zhǎng) 254nm 和 185nm 的紫外光，這兩種波長(zhǎng)的光子能量能夠直接打開(kāi)和切斷有機(jī)物分子中的共價(jià)鍵，使有機(jī)物分子活化，分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。

光敏氧化作用：185nm 波長(zhǎng)紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O?）分解成臭氧（O?）；254nm 波長(zhǎng)的紫外光的光能量能將 O?分解成 O?和活性氧（O）。活性氧原子（O）有強(qiáng)烈的氧化作用，與活化了的有機(jī)物分子發(fā)生氧化反應(yīng)，生成揮發(fā)性氣體（如 CO?、CO、H?O、NO 等）逸出物體表面，從而清除粘附在物體表面上的有機(jī)污染物。

應(yīng)用場(chǎng)景

電子行業(yè)：可用于液晶顯示器件、觸摸屏、半導(dǎo)體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板等的表面清洗，去除光刻膠、油污、指紋等污染物，提高后續(xù)工藝的良品率和可靠性。

光學(xué)行業(yè)：能對(duì)光學(xué)器件、石英晶體等進(jìn)行清洗，去除表面的灰塵、油污和有機(jī)雜質(zhì)，保證光學(xué)性能和成像質(zhì)量。

材料處理領(lǐng)域：用于各種基材的預(yù)處理，如金屬和玻璃，可改善表面潤(rùn)濕性，提高對(duì)粘合劑、油漆和涂料的附著力。

其他領(lǐng)域：在密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料處理等方面也有應(yīng)用，有助于提高材料的表面性能和使用壽命。

高效的清洗能力：像其他 SEN 日森光學(xué)表面處理設(shè)備一樣，SSP-48 或許能發(fā)射特定波長(zhǎng)的紫外線，利用紫外線的光分解和光敏氧化作用，快速有效地去除光學(xué)表面的有機(jī)物污染物，如指紋、油污、光刻膠殘留等，使光學(xué)表面達(dá)到較高的清潔度。

精準(zhǔn)的處理效果：可能配備了高精度的光學(xué)系統(tǒng)和控制系統(tǒng)，能夠精確控制紫外線的照射角度、強(qiáng)度和時(shí)間，確保在處理光學(xué)表面時(shí)，不會(huì)對(duì)光學(xué)元件的性能和精度造成影響，可滿足不同光學(xué)元件的表面處理需求，如透鏡、棱鏡、反射鏡等。

良好的穩(wěn)定性：SEN 日森作為專業(yè)的設(shè)備制造商，其產(chǎn)品通常具有較好的穩(wěn)定性和可靠性。SSP-48 可能采用了優(yōu)質(zhì)的材料和優(yōu)良的制造工藝，在長(zhǎng)時(shí)間的運(yùn)行過(guò)程中能夠保持穩(wěn)定的性能，減少設(shè)備故障和維護(hù)成本。

靈活的操作方式：或許具備多種操作模式和參數(shù)設(shè)置選項(xiàng)，用戶可以根據(jù)不同的光學(xué)表面處理要求，靈活調(diào)整設(shè)備的工作參數(shù)，如照射時(shí)間、功率等，以達(dá)到最佳的處理效果。同時(shí)，可能還具有友好的人機(jī)界面，方便操作人員進(jìn)行操作和監(jiān)控。

可能的應(yīng)用領(lǐng)域

光學(xué)鏡片制造：在光學(xué)鏡片的生產(chǎn)過(guò)程中，用于鏡片表面的清洗和預(yù)處理，去除鏡片表面的雜質(zhì)和污染物，提高鏡片的透光率和成像質(zhì)量，為后續(xù)的鍍膜等工藝提供良好的表面基礎(chǔ)。

光學(xué)儀器生產(chǎn)：可用于顯微鏡、望遠(yuǎn)鏡、相機(jī)鏡頭等光學(xué)儀器的光學(xué)元件表面處理，確保光學(xué)元件的表面質(zhì)量，提升光學(xué)儀器的性能和可靠性。

光通信行業(yè)：對(duì)光通信領(lǐng)域中的光纖連接器、光模塊等光學(xué)部件進(jìn)行表面處理，去除表面的灰塵和油污，改善表面的光潔度，提高光信號(hào)的傳輸效率和穩(wěn)定性。

半導(dǎo)體制造：在半導(dǎo)體制造工藝中，用于光刻環(huán)節(jié)中光學(xué)掩模板等部件的表面清洗，保證光刻精度，提高半導(dǎo)體芯片的制造良率。