中村供應：KASHIYAMA日本樫山工業(yè)真空泵MU100P/H

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無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質(zhì)污染，適用于超潔凈工藝環(huán)境，如半導體晶圓制造等。

氮氣吹掃功能：支持氮氣吹掃功能，氮氣流量可在 0 至 80SLM 范圍內(nèi)調(diào)節(jié)，增強了工藝靈活性。

高效節(jié)能：通過新型加熱器系統(tǒng)與機械結構優(yōu)化，實現(xiàn)了低功耗化，功率僅 1.5kW。

抽氣能力強：最大抽速可達 10,000L/min，極限壓力為 0.5Pa，能夠快速有效地抽取氣體，滿足不同應用場景的真空需求。

小型化設計：外形尺寸為 695×285×820mm，機身小巧，節(jié)省安裝空間。

冷卻水需求低：冷卻水流量僅需 3.0L/min，對冷卻系統(tǒng)的要求不高，可降低運行成本和設備復雜度。

安全可靠：符合工業(yè)安全標準，配備高安全性防護設計，能在工況下穩(wěn)定運行。

產(chǎn)品兼容性好：支持與同系列設備協(xié)同工作，可擴展應用場景，例如可與 SDT600 或 SDX1200 等搭配使用。

應用領域廣泛：適用于化工、電子 / 電池、半導體制造、實驗室等領域，可用于晶圓加工、蝕刻等關鍵工藝的真空環(huán)境控制，以及高純度實驗環(huán)境及腐蝕性氣體處理。

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