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ED-3000MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備
參考價: 13000
訂貨量: 1
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • ED-3000 產(chǎn)品型號
  • MIKASA/米卡薩 品牌
  • 經(jīng)銷商 廠商性質(zhì)
  • 成都市 所在地

訪問次數(shù):34更新時間:2025-05-27 16:55:32

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產(chǎn)品簡介
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備 ED-3000
顯影和蝕刻設(shè)備是半導(dǎo)體制造和微電子加工中的核心工藝裝備,主要用于圖形轉(zhuǎn)移和微納結(jié)構(gòu)加工。
產(chǎn)品介紹

MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備 ED-3000


MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備 ED-3000

顯影和蝕刻設(shè)備是半導(dǎo)體制造和微電子加工中的核心工藝裝備,主要用于圖形轉(zhuǎn)移和微納結(jié)構(gòu)加工。顯影設(shè)備通過化學(xué)溶液去除曝光后的光刻膠可溶部分,形成所需圖案;蝕刻設(shè)備則通過物理或化學(xué)方法去除未被光刻膠保護(hù)的基底材料,實現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移。

主要設(shè)備類型:

顯影設(shè)備:

噴淋式顯影機(jī)

浸漬式顯影機(jī)

超聲波輔助顯影機(jī)

蝕刻設(shè)備:

濕法蝕刻設(shè)備(化學(xué)溶液)

干法蝕刻設(shè)備(等離子體)

反應(yīng)離子蝕刻(RIE)

深硅蝕刻(DRIE)

設(shè)備特點

高精度加工能力:

可實現(xiàn)納米級圖形轉(zhuǎn)移(<10nm)

各向異性蝕刻控制(側(cè)壁角度可調(diào))

高深寬比加工(最高可達(dá)50:1)

先進(jìn)工藝控制:

精確的溫度控制系統(tǒng)(±0.1℃)

實時終點檢測技術(shù)

多參數(shù)閉環(huán)控制

材料兼容性廣:

硅、化合物半導(dǎo)體、金屬等多種材料

有機(jī)/無機(jī)介質(zhì)材料

新型二維材料

智能化系統(tǒng):

自動配方管理

故障自診斷

遠(yuǎn)程監(jiān)控

環(huán)保設(shè)計:

廢氣處理系統(tǒng)

廢液回收裝置

低耗材設(shè)計

顯影和蝕刻設(shè)備作為微納制造的關(guān)鍵裝備,其技術(shù)水平直接決定了集成電路和微器件的性能與可靠性。隨著半導(dǎo)體技術(shù)節(jié)點的不斷推進(jìn)和新興應(yīng)用的涌現(xiàn),新一代設(shè)備正向著更高精度、更高效率、更智能環(huán)保的方向發(fā)展。未來,這些設(shè)備將繼續(xù)在推動信息技術(shù)進(jìn)步、賦能新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展方面發(fā)揮不可替代的作用。

聚氯乙烯轉(zhuǎn)速0~3,000轉(zhuǎn)/分

基板尺寸

φ1“ ~ φ12"
(220×220mm)
聯(lián) 鎖真空吸附確認(rèn)傳感器
加工腔蓋聯(lián)鎖
噴嘴移動超限
限制器

化學(xué)泵送

加壓罐壓力泵

化學(xué)品排放

噴霧排放
(擺動噴嘴型)
權(quán)力AC200V 三相 15A
尺寸 (mm) 當(dāng)門打開時
720W×500H×520D
910H

步數(shù)

48 步
跳拷貝功能
程序模式10 模式重量60 公斤
工藝(標(biāo)準(zhǔn))蝕刻液:1 個系統(tǒng)(2 個噴嘴) 沖洗:1 個系統(tǒng)(2 個噴嘴) 反
沖洗:1 個

關(guān)鍵選項化學(xué)溫度管理系統(tǒng)
(加壓法)
各種基板支架
安裝工作臺




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