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海德創(chuàng)業(yè)(北京)生物科技有限公司

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EMS 150T鍍膜儀(通用儀器)

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  • 海德創(chuàng)業(yè)(北京)生物科技有限公司
  • 2017-05-03 17:38:14
  • 北京市
  • 美國
  • 2871

我要詢價 具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

【簡單介紹】

鍍膜儀(通用儀器),分子渦輪高真空系統(tǒng),CPU程序全自動控制,觸膜屏用戶界面,可鍍多種膜材,也可鍍相對較厚的膜。具有快速濺射易氧化和不氧化金屬(貴金屬)靶材的功能,可選各種濺射靶材,包括常用于場發(fā)射電鏡的銥和鉻。

【詳細(xì)說明】

EMS150T 鍍膜儀(通用儀器)S高分辨率離子濺射儀High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater

型號:EMS150T  S

鍍膜儀(通用儀器)簡介:

分子渦輪高真空系統(tǒng),CPU程序全自動控制,觸膜屏用戶界面,可鍍多種膜材,也可鍍相對較厚的膜。具有快速濺射易氧化和不氧化金屬(貴金屬)靶材的功能,可選各種濺射靶材,包括常用于場發(fā)射電鏡的銥和鉻。

可選配一系列可選附件,如:金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測量等。

標(biāo)準(zhǔn)配置的樣品臺,無傾角,高度不可調(diào)。如果需要傾斜樣平臺,需要另外選擇。

         

主要技術(shù)指標(biāo):
    1、尺寸和重量:儀器機(jī)箱:585mm寬x 470mm長 x 410mm高 (總高: 650mm)

    2、儀器總重量:33.4Kg

    3、工作腔室:硼硅酸鹽玻璃,152mm(內(nèi)) x 127mm高

    4、觸摸屏全圖像用戶界面

    5、樣品臺:標(biāo)配件(無傾角,高度不可調(diào)) ,轉(zhuǎn)速8-20rpm

    6、真空系統(tǒng):

              渦輪分子泵:帶有空氣冷卻的渦輪分子泵(標(biāo)準(zhǔn)配置里面)

              旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵:雙級旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵(需要另購)

    7、真空度: 5x10-3-----5x10-1 mbar  

    8、濺射時間:zui長60分鐘

    9、濺射靶材:57mm Ø x 0.3mm Chromium(標(biāo)準(zhǔn)配置:鉻靶材一個)

產(chǎn)品選購:

產(chǎn)品貨號

產(chǎn)品名稱

產(chǎn)品規(guī)格

3380

EMS150T S - High resolution turbomolecular

pumped sputter coater, including

a  54mm Ø x 0.3mm chromium target

標(biāo)準(zhǔn)配置

91003

Edwards RV3 50L/s two-stage rotary pump,

with vacuum hose,

coupling kit and oil mist filter

 

其它附件的選購:

產(chǎn)品貨號

產(chǎn)品名稱

產(chǎn)品規(guī)格

3200

Sputtering head insert suitable for

oxidizing and non-oxidizing metals.

Supplied with a 54mm x 0.3mm thick chromium

target as standard. For additional

targets see Sputtering Targets section

3210

Additional sputter insert for quick metal change.

Note: this is an entire sputtering assembly.

3270

Extended height vacuum chamber (214mm high – the

standard chamber is 127mm high).

For increased source to sample distance and

for coating large specimens

3280

Vacuum spigot allows more convenient connection

of the vacuum hose to the rear of the

EMS150T when bench depth is limited

3290

Film thickness monitor (FTM) attachment.

Consists of a built in chamber mounted quartz

crystal oscillator (includes crystal).

As sputtered or evaporated material is

deposited onto the crystal,

so its frequency ofoscillation is modified.

This ‘modification’ is used to measure

and control the thickness of

material deposited

3300

Spare quartz crystals. Pack of three

3320

Full range vacuum gauge for low and high

vacuummeasurement (a low vacuum Pirani

gauge is fitted as standard)

4513

Glow discharge insert to modify surface

properties (eg hydrophobic to hydrophilic

conversion) or to clean surface

residues (TS and T ES only).

Can be retrofitted

3340

Rotate-tilt specimen stage with adjustable tilt

(up to 90 degrees) and height (37mm-60mm).

Tilt angle can be pre-set. 50mm Ø specimen

platform with six stub positions for 15mm

or 6.5mm or 1/8" pin stubs. Stage rotation

speed variable between 8 and 20rpm

3350

Variable angle “Rotacota” rotary planetary

stage with 50mm Ø specimen platform. Has

six stub positions for 15mm or 6.5mm

or 1/8" pin stubs. Stage rotation

speed variable between 8 and 20rpm

3360

Flat rotation specimen stage for

100mm / 4”wafers, includes gearbox for

increased coverage. Stage rotation speed 

variable between 8 and 20rpm

3370

variable between 8 and 20rpm.

Includes gear box to allow

optional FTM to be used

 

靶材的選購(舉例如下,實際提供的靶材規(guī)格材質(zhì)更多):

產(chǎn)品貨號

產(chǎn)品名稱

產(chǎn)品規(guī)格

3410

57mm Ø x 0.1mm,金靶

3411

57mm Ø x 0.1mm金/鈀靶(80/20)

3412

57mm Ø x 0.1mm鉑金靶

3413

57mm Ø x 0.1mm鎳靶

3414

57mm Ø x 0.1mm銀靶

3415

57mm Ø x 0.1mm鈀靶

3416

57mm Ø x 0.1mm銅靶

3417

57mm Ø x 0.3mm鉻靶

3418

57mm Ø x 0.5mm鎢靶

3422

57mm Ø x 0.1mm鋁靶

    
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