反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備（美國(guó)產(chǎn)，高性價(jià)比） 參考價(jià)：面議
反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備（美國(guó)產(chǎn)，高性價(jià)比）-聚合物或光阻的等溫各向同性干刻-硅片或玻璃表面清潔-硅表面氧化去除
等離子體去膠機(jī)（高性價(jià)比） 參考價(jià)：面議
等離子體去膠機(jī)（高性價(jià)比） Isotropic dry etching of polymer （photo resist） Cleaning of silico...
真空快速退火爐RTP-材料設(shè)備 參考價(jià)：面議
真空快速退火爐RTP-材料設(shè)備RTA（快速熱退火）； RTO（快速熱氧化）；注入退火；擴(kuò)散；化合物半導(dǎo)體退火；滲氮；滲硅； 結(jié)晶化與致密化；
光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) 參考價(jià)：面議
光刻機(jī)/紫外曝光機(jī)該公司是目前世界上早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以...
勻膠機(jī)，旋涂?jī)x 參考價(jià)：面議
勻膠機(jī)，旋涂?jī)x其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同, 也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。
全自動(dòng) 大尺寸 光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
全自動(dòng) 大尺寸 光刻機(jī)公司開(kāi)發(fā)并生產(chǎn)用于半導(dǎo)體、MEMS、LED及納米技術(shù)相關(guān)的實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)領(lǐng)域的光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)和甩膠機(jī)，是韓國(guó)*家研發(fā)并商業(yè)化光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)的...
電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機(jī)分子束沉積OMBD、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Etcher、電子回旋共...
磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
磁控濺射鍍膜系統(tǒng)專業(yè)的沉積設(shè)備制造商，為各個(gè)領(lǐng)域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案：電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機(jī)分子束沉積...
深能級(jí)瞬態(tài)譜儀2-半導(dǎo)體表征 參考價(jià)：面議
深能級(jí)瞬態(tài)譜儀2-半導(dǎo)體表征深能級(jí)瞬態(tài)譜儀是半導(dǎo)體領(lǐng)域研究和檢測(cè)半導(dǎo)體雜質(zhì)、缺陷深能級(jí)、界面態(tài)等的重要技術(shù)手段！測(cè)試功能：電容模式、定電容模式、電流模式、（雙關(guān)...
勻膠機(jī) 參考價(jià)：面議
勻膠機(jī)其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同, 也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。
非接觸式取片器 參考價(jià)：面議
非接觸式取片器*符合自動(dòng)化控制系統(tǒng)的需求。公司產(chǎn)品部門(mén)可以按照客戶*需求進(jìn)行定制化產(chǎn)品生產(chǎn)。公司同樣生產(chǎn)用于平板（Flat Panel dispaly,FPD）...
劃片機(jī) 參考價(jià)：面議
劃片機(jī)The Scribe 100-4 is an unique machine designed scribing & breaking of delicat...
脈沖激光沉積分子束外延鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
脈沖激光沉積分子束外延鍍膜系統(tǒng)優(yōu)異的性能, PVD公司生產(chǎn)的脈沖激光沉積分子束外延系統(tǒng)在國(guó)內(nèi)有較多用戶，為眾多老師開(kāi)啟薄膜外延制備的新篇章。歡迎前來(lái)參觀咨詢。
脈沖激光沉積鍍膜系統(tǒng)（PLD） 參考價(jià)：面議
脈沖激光沉積鍍膜系統(tǒng)（PLD）靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設(shè)在對(duì)面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學(xué)理論上準(zhǔn)...
基質(zhì)輔助脈沖激光沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
基質(zhì)輔助脈沖激光沉積鍍膜系統(tǒng)The polymer material will then deposit on the substrate while the ...
空氣示蹤器-德國(guó)氣溶膠設(shè)備 參考價(jià)：面議
空氣示蹤器-德國(guó)氣溶膠設(shè)備此儀器用于空氣流動(dòng)的觀測(cè)，可以自身可控產(chǎn)生非危險(xiǎn)煙氣，便于攜帶和安裝測(cè)試。使用時(shí)，在選定檢測(cè)點(diǎn)由探頭頂部產(chǎn)生煙氣，氣流平緩穩(wěn)定。廣泛應(yīng)...
煙霧發(fā)生器-德國(guó)氣溶膠設(shè)備 參考價(jià)：面議
煙霧發(fā)生器-德國(guó)氣溶膠設(shè)備此系統(tǒng)致力于煙霧的研究，廣泛應(yīng)用在各國(guó)授權(quán)的煙火研究分析實(shí)驗(yàn)室，專業(yè)分析高標(biāo)準(zhǔn)濾材。 某些特殊行業(yè)需要超高潔凈度，對(duì)濾材要求高，例如核...
高濃度/高溫/高壓氣溶膠稀釋器-德國(guó)設(shè)備 參考價(jià)：面議
高濃度/高溫/高壓氣溶膠稀釋器-德國(guó)設(shè)備粒徑范圍內(nèi)具有很低的顆粒物損失率。在高濃度的氣溶膠分析時(shí)，它能降低顆粒物入口濃度，使顆粒物的入口濃度在儀器操作Z敏感、精...
粉塵氣溶膠發(fā)生器-德國(guó)設(shè)備 參考價(jià)：面議
粉塵氣溶膠發(fā)生器-德國(guó)設(shè)備將粉末樣品裝入圓柱型存儲(chǔ)器中,通過(guò)活塞輸送到旋轉(zhuǎn)刷,旋轉(zhuǎn)刷將準(zhǔn)確輸送一定量的樣品到擴(kuò)散頭,在擴(kuò)散頭處通過(guò)噴嘴加速,氣流將被加速到180...
凝聚式單分散氣溶膠發(fā)生器2-德國(guó)設(shè)備 參考價(jià)：面議
凝聚式單分散氣溶膠發(fā)生器2-德國(guó)設(shè)備凝聚式單分散氣溶膠發(fā)生器包含三個(gè)部分:晶核源,蒸發(fā)器,冷凝器.首先通過(guò)一般的噴霧發(fā)生器產(chǎn)生晶核源,晶核經(jīng)過(guò)裝有氣溶膠物質(zhì)(如...
濾料測(cè)試系統(tǒng)2-德國(guó)氣溶膠設(shè)備 參考價(jià)：面議
濾料測(cè)試系統(tǒng)2-德國(guó)氣溶膠設(shè)備MFP系統(tǒng)配置We-las氣溶膠粒徑譜儀,可含兩個(gè)傳感器,其中一個(gè)測(cè)定濾料的上游顆粒濃度,測(cè)定濃度可高達(dá)1000mg/m3而無(wú)須稀...
氣溶膠粒徑譜儀-德國(guó)設(shè)備 參考價(jià)：面議
氣溶膠粒徑譜儀-德國(guó)設(shè)備本系統(tǒng)采用均勻的氙燈白光源,氣溶膠粒子流經(jīng)過(guò)光源,產(chǎn)生光散射效應(yīng),90度散射角進(jìn)行檢測(cè),軟件采用全程的Mie式理論計(jì)算,得到粒徑大小的體...
探針臺(tái)-測(cè)試設(shè)備 參考價(jià)：面議
探針臺(tái)-測(cè)試設(shè)備(Analytical Probe Station)我司代理的探針臺(tái)型號(hào)很多，有晶圓探針臺(tái)、LCD/OLED探針臺(tái)、RF探針臺(tái)、LD/PD探針臺(tái)...
多功能磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
多功能磁控濺射鍍膜儀(濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā))多種薄膜沉積設(shè)備，PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)等。(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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