Nanoscribe QX系列雙光子無掩
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Nanoscribe客戶成功案例可實(shí)現(xiàn)助力無線顱內(nèi)壓監(jiān)測(cè)和腹腔鏡手術(shù)
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產(chǎn)品展示
更多Nanoscribe 微納奇跡的創(chuàng)造者
近日,三星發(fā)布了一則商業(yè)廣告 Micro Miracles。從玩游戲的少年到精細(xì)的56層摩天大樓,三星推廣視頻中的所有8個(gè)令人驚嘆的微觀模型都是使用Nanoscribe基于雙光子聚合增材制造技術(shù)所制造。三星廣告中的雕塑結(jié)構(gòu)最終展示了Nanoscribe高精度3D打印技術(shù)在科學(xué)和工業(yè)微系統(tǒng)領(lǐng)域的能力。借助這項(xiàng)技術(shù),任何在納米和微米尺度世界中的微光學(xué)和集成光子學(xué)、微流體學(xué)、微機(jī)械學(xué)和微電機(jī)械系統(tǒng)等應(yīng)用領(lǐng)域可想象或具有功能性的3D設(shè)計(jì)都可以實(shí)現(xiàn)。
三星最新廣告 Micro Miracle
這些令人驚嘆的微納結(jié)構(gòu)是如何實(shí)現(xiàn)的呢?答案正是Nanoscribe推出的真正意義上的革新3D微納加工技術(shù):3D printing by 2GL®雙光子灰度光刻,該技術(shù)為3D納米和微納加工樹立了全新標(biāo)準(zhǔn)。
目前,Nanoscribe Quantum X align平臺(tái)將搭載這一革新3D微納加工技術(shù),并配備了對(duì)準(zhǔn)軟件nanoPrintX。
全新升級(jí)的Quantum X align系統(tǒng)配備的2GL技術(shù)將雙光子聚合(2PP)的高分辨率與體素調(diào)整技術(shù)相結(jié)合,極大減少了打印層數(shù),使得2GL成為目前基于2PP原理的最快速的微尺度3D打印方案。該技術(shù)在兼顧優(yōu)異形狀精度和打印質(zhì)量的同時(shí)實(shí)現(xiàn)高速打印,為全新應(yīng)用領(lǐng)域奠定了基礎(chǔ),可在提高打印質(zhì)量前提下以更短的打印時(shí)間內(nèi)制造更為精細(xì)的微光學(xué)系統(tǒng)。整個(gè)打印過程在保持高速掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率。這使得聚合體素得到精確尺寸調(diào)整,以匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟,不產(chǎn)生形狀失真的要求下,最終您將獲得具有無瑕疵光學(xué)級(jí)表面的任意3D打印設(shè)計(jì)的100%真實(shí)形狀。?
雙光子灰度光刻技術(shù)標(biāo)志著基于2PP原理的3D微納加工新時(shí)代。除了微光學(xué)和光子學(xué)之外,這項(xiàng)技術(shù)還可適用于許多潛在應(yīng)用,而高速打印、光學(xué)質(zhì)量表面、精細(xì)的亞微米細(xì)節(jié)或紋理表面則成為了關(guān)鍵因素。Nanoscribe通過研發(fā)3D printing by 2GL,將體素調(diào)整技術(shù)引入到三維層面。
我們一起來詳細(xì)看看全新Quantum X align平臺(tái)系統(tǒng)的最新功能吧!
Quantum X align的打印倉內(nèi):光纖照明單元將光耦合到光纖中,以進(jìn)行自動(dòng)檢測(cè)并將打印對(duì)準(zhǔn)到光纖的光學(xué)軸。照明單元可同時(shí)支持多達(dá)32根光纖。
Quantum X平臺(tái)的觸控屏具備高效實(shí)用性特點(diǎn)。虛擬導(dǎo)航攝像頭提供有關(guān)打印頭精確位置的額外反饋,并簡(jiǎn)化對(duì)復(fù)雜基板的導(dǎo)航。
Quantum X align系統(tǒng)配備用于芯片對(duì)準(zhǔn)打印的基板夾,具具備易用性特點(diǎn),配備gelpak©可輕松固定一個(gè)或多個(gè)芯片進(jìn)行批量處理。打印后,芯片可以輕松從基板夾具中取出,確保不會(huì)損壞已加工的芯片。
Quantum X align系統(tǒng)經(jīng)過優(yōu)化,可用于打印具有最高放置精度的微光學(xué)元件,并實(shí)現(xiàn)在光纖和光子芯片上自動(dòng)對(duì)齊。3D printing by 2GL憑借全新的高質(zhì)量打印和高速打印,為推動(dòng)自由空間微光學(xué)耦合(FSMOC)的產(chǎn)業(yè)化道路奠定了基礎(chǔ),適用于光子封裝和集成的高效穩(wěn)健光耦合解決方案。
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德國Nanoscribe 超高精度雙光子微納3D無掩模光刻系統(tǒng):
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