產(chǎn)品名稱:薄膜測厚儀
主要技術指標:
測量范圍(VIS):15nm—100μm
測量重復性(RMS):0.086nm
測量精度(與橢偏儀對比):0.25nm
測量層數(shù):大于3層
使用光源:鹵素燈;
入射角度:90°
測試材料:透明或半透明薄膜材料;
光斑尺寸:20μm—3mm(可選)
測量時間:100ms—4ms;
通信接口:USB2.0
產(chǎn)品特點:
采用光譜干涉原理進行測量,具有非接觸、無破壞、快速等特點;
可在真空環(huán)境使用;可與大行程工件臺配合,實現(xiàn)大面積膜厚自動測量。
薄膜測厚儀測試數(shù)據(jù):
薄膜測厚儀設備組成:
測試主機、光纖、校正件、測量頭、夾持裝置、設備箱、手提電腦。