目錄:北京卓立漢光儀器有限公司>>光譜儀器>>微區(qū)磁光及角分辨>> 微區(qū)-磁光克爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)
參考價(jià) | 面議 |
參考價(jià) | 面議 |
更新時(shí)間:2024-11-26 17:26:44瀏覽次數(shù):86評(píng)價(jià)
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
---|---|---|---|
應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,農(nóng)業(yè),電子,綜合 |
微區(qū)-磁光克爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)
產(chǎn)品概述
磁光克爾測(cè)量技術(shù)主要通過(guò)探測(cè)光和磁性樣品相互作用后反射光的偏振態(tài)變化來(lái)研究材料的磁性,在超快磁光存儲(chǔ)領(lǐng)域有重要應(yīng)用,磁光克爾測(cè)量技術(shù)是一種無(wú)接觸光學(xué)測(cè)量技術(shù), 在單原子層微小樣品測(cè)量方面*具優(yōu)勢(shì),實(shí)現(xiàn)PPMS和SQUID無(wú)法完成的測(cè)量。微區(qū)磁光克爾系統(tǒng)是基于磁光克爾效應(yīng)的非接觸、非破壞可直接觀測(cè)磁性材料和器件中的磁化狀態(tài)的光學(xué)顯微成像設(shè)備,用于清晰直觀了解樣品內(nèi)的磁化狀態(tài)空間分布和時(shí)間演化。
北京卓立漢光儀器有限公司全新推出微區(qū)磁光克爾及磁圓二色測(cè)試系統(tǒng),可根據(jù)用戶需求提供定制化解決方案,產(chǎn)品范圍涵蓋微區(qū)磁光克爾系統(tǒng)和磁圓二色測(cè)試系統(tǒng),并可根據(jù)用戶需求升級(jí)拓展拉曼,熒光,熒光壽命及二次諧波(可選配電控偏振)等模塊,可用于檢測(cè)樣品表面磁性和磁疇結(jié)構(gòu),適用于磁性材料、二維鐵磁材料和自旋電子器件等應(yīng)用領(lǐng)域。
非接觸,非破壞
波長(zhǎng),偏振態(tài),角度分辨
微區(qū)測(cè)量
磁疇成像
系統(tǒng)結(jié)構(gòu)
磁光克爾顯微成像測(cè)試系統(tǒng)使用多路鎖相,同步采集,大幅抑制激光功率波動(dòng)噪聲。配置無(wú)磁反射式物鏡或單個(gè)非球面鏡成像,極低的法拉第效應(yīng)。使用光彈調(diào)制器,同步獲得MOKE與RMCD數(shù)據(jù)。產(chǎn)品從空間配置與鍍膜參數(shù)嚴(yán)格設(shè)計(jì)及檢測(cè)的光學(xué)元件組,保偏性能*佳。
主要配置清單
模塊 | 參數(shù) |
主體架構(gòu) | 主體尺寸:長(zhǎng) × 寬 × 高,約 600 mm × 600 mm × 550 mm; |
顯微成像模塊 | 尺寸:長(zhǎng) × 寬 × 高,約 550 mm × 550 mm × 145 mm; |
MOKE&RMCD模塊 | 外殼尺寸:長(zhǎng) × 寬 × 高,約 550 mm × 550 mm × 145 mm; |
Raman532&PL&SHG模塊 | 外殼尺寸:長(zhǎng) × 寬 × 高,約 550 mm × 550 mm × 145 mm; |
532nm窄線寬激光器 | 中心波長(zhǎng):532nm+/-0.1 |
軟件 | MOKE,RMCD,Raman,PL 掃描成像; |
典型光路原理:
模塊化軟件界面:
可編程自動(dòng)化運(yùn)行界面:
典型數(shù)據(jù)和論文:
面掃描,磁疇成像,器件成像
本系統(tǒng)已發(fā)表論文:
[1] Huang X, et al. Nature Communications, 14(1): 2190.( 2023)
[2] Chen X, et al. Adv. Sci. 10, 2207617.( 2023)
[3] Dai H, et al. [J]. ACS nano, 16(8): 12437-12444.( 2022)
[4] Dai H, et al. [J]. ACS Appl. Mater. Interfaces 2021, 13, 24314?24320
[5] Zhang L, et al. Adv. Mater. 2020, 32, 2002032
[6] Wang M, et al. Nanoscale, 2020, 12, 16427.
可擴(kuò)展功能:
拉曼,熒光,熒光壽命及二次諧波
典型實(shí)測(cè)數(shù)據(jù):
偏振二次諧波:紅*納米帶
熒光壽命掃描(FLIM):Cs/FA/MA三陽(yáng)離子鈣鈦礦
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)